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SCREEN二手清洗设备WS-820L
SCREEN二手清洗设备WS-820L，针对8英寸晶圆的高通量批量清洗系统可实现灵活的生产线配特点：1.传输类型选择WS-820L用于200毫米晶圆并进行无载体转移处理 参考价面议 -
SAWATEC二手现货 匀胶机SM-200
SM-200具有高度的均匀性和可重复性，以及操作方便和操作舒适性 参考价面议 -
MATTSON二手刻蚀机 ASPEN III现货供应
MATTSON二手刻蚀机ASPENIII，2006年设备，lightetcher，可对12英寸晶圆进行蚀刻工艺处理 参考价面议 -
二手刻蚀机现货供应MATRIX SYSTEM ONE 106
二手刻蚀机现货供应MATRIXSYSTEMONE106，1995年设备，可对4-6英寸的晶圆进行蚀刻工艺加工 参考价面议 -
二手刻蚀机现货TOKYO OKA/TOK TCE-3822
二手刻蚀机现货TOKYOOKA/TOKTCE-3822，2011年设备，可对尺寸为5英寸的晶圆进行蚀刻工艺处理 参考价面议 -
PVA TEPLA / TECHNICS 300 AUTOLOAD PC刻蚀机二手现货
PVATEPLA/TECHNICS300AUTOLOADPC刻蚀机 参考价面议 -
PVA TEPLA / TECHNICS 660刻蚀机二手现货供应
PVATEPLA/TECHNICS660刻蚀机二手现货，2008年设备，仅运行16小时，微波等离子刻蚀设备 参考价面议 -
Mattson刻蚀机Asher设备 Aspen 3 Lite
AspenIII基于具有接地法拉第屏蔽的专有ICP源设计，为半导体制造商提供经过生产验证且具有成本效益的剥离和蚀刻解决方案 参考价面议 -
TEL二手刻蚀机刻蚀系统Tactras
TEL刻蚀系统Tactras™是一种高度可靠的300毫米等离子蚀刻系统，可提高蚀刻工艺的工作效率 参考价面议 -
TEL刻蚀机,二手刻蚀系统Certas™ 系列
TEL刻蚀系统CertasLEAGA™是一种环保、高通量的气体化学蚀刻系统，专为300毫米晶圆而设计，无需使用液体即可提供表面蚀刻和清洁 参考价面议 -
SAMCO二手等离子刻蚀机RIE-300NR
SAMCO等离子刻蚀机RIE-300NR是一种理想的反应离子蚀刻系统，适用于加工ø300mm晶圆和多晶圆（ø3"×12，ø4"×8等），具有优异的均匀性 参考价面议 -
SAMCO二手ICP刻蚀机RIE-230iP现货供应
SAMCOICP刻蚀机RIE-230iP是以电感耦合等离子体为放电方式，高速进行各种材料的超精细加工的负载锁定型ICP蚀刻系统 参考价面议