SM-200具有高度的均匀性和可重复性，以及操作方便和操作舒适性。创新的RCCT系统（圆闭室技术）有效地减少了旋转基底上的空气湍流，提高了涂层的均匀性，因为封闭室内的大气，溶剂迅速被饱和，挥发更慢，使涂层过程更均匀，显著节省了消耗的介质。

HP-200是为光刻、MEMS和类似应用中的精密热处理工艺而开发的。默认温度范围设计为高达250°C。设定温度和温度分布更精确，这意味着可以实现高涂层质量。HP系列具有高度的一致性和高精度的工艺重复性。它可用于直径达200mm，厚度为18mm的基板。

基础配置功能：

 最多可编程50个节目，每个节目有24个片段

 重复流程的快速启动功能

 具有触摸屏面板的用户友好流程配置

 过程参数：速度、加速度、时间

 可选择旋转方向（CW、CCW）

 RCCT系统（圆形密闭室技术）

 为最多4条介质线准备的动态分配臂

 基板的手动装卸

 通过真空和安全联锁保护固定基板

 过程完成时的声音信号