品牌
其他厂商性质
所在地
SCREEN二手清洗设备WS-820L
面议SAWATEC二手现货 匀胶机SM-200
面议全自动石蜡切片机RM2255
面议二手ASML光刻机,KrF曝光机现货
面议日本尼康Nikon二手翻新定制曝光机分步投影光刻机NSR-S204B
面议ASML 步进式扫描DUV光刻机 ArF曝光机 NXT1970Ci/1980Di
面议ASML KrF曝光机,二手光刻机AT: 850B
面议ASML ARF曝光机,二手翻新步进扫描光刻机PAS 5500-750C
面议TEL二手翻新涂胶显影机CLEAN TRACK™ LITHIUS
面议SUSS 二手涂胶显影机 MicroTec ACS200
面议TEL CLEAN TRACK ACT8(ACT12)涂胶显影机
面议球差场发射透射电子显微镜 HF5000
面议SAMCO ICP刻蚀机RIE-230iP是以电感耦合等离子体为放电方式,高速进行各种材料的超精细加工的负载锁定型ICP蚀刻系统。该系统通过采用的龙卷风式线圈电极,高效地产生稳定的高密度等离子体,可对硅及各种金属薄膜和化合物半导体进行高精度的各向异性蚀刻。此外,ø230mm的托盘可同时处理多种化合物半导体。
龙卷风线圈电极
它能有效地产生稳定的高密度等离子体,使蚀刻具有高选择性、高精度和良好的均匀性。
低损伤工艺
通过ICP产生高密度的等离子体,实现了低偏置、低损伤的工艺。
温度控制
电调和He冷却的平台和反应室内侧壁的温度控制使蚀刻在稳定的条件下进行。
GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。铁电材料、电极材料等难蚀材料的加工。