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HMDS真空烘箱,HMDS镀膜烘箱的用途:
HMDS真空烘箱,HMDS镀膜烘箱通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。
的特点:
1、安全性高、更加环保,HMDS是有毒化学药品,人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激、呼吸道等,由于整个过程是在密闭的环境下完成的,所以不会有人接触到药液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机,所以也不会对环境造成污染。
2、hmds熏蒸机效率高,液态涂布是单片操作,而本系统一次可以处理多达8盒(4寸)的晶片,甚至更多
3、预处理性能好,由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理,所以不会有尘埃的干扰,再者,由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在容器里先经过100℃-160℃的去水烘烤,再接着进行HMDS处理,不需要从容器里传出,而接触到大气,晶片吸收水分子的机会大大降低,所以有着更好的处理效果。
4、均匀性好,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。
5、hmds烘箱更加智能化,智能型的程式设定,一键完成作业。HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。当HMDS液位过低时发出报警提示。
的技术规格:
1.设备名称 |
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2、设备型号 | JS-HMDS90 |
3、设备主要技术参数 | |
3.1 工作室尺寸 | 450×450×450mm(可定做) |
3.2 产品架 | 2层 |
3.3 温度范围 | RT+10-250℃ |
3.4 温度分辨率 | 0.1℃ |
3.5 温度波动度 | <±1℃ |
3.6 真空度 | ≤133pa |
3.7 洁净度 | class 100,设备采用无尘材料,适用100级光刻间净化环境 |
3.8电源及总功率 | AC 220V±10% 50HZ 总功率 约2.5KW |
3.9 控制仪表 | 人机界面 |
3.10显示分辨率 | 时间:0.1min |
3.11真空泵 | 油泵或干泵
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