HMDS真空烘箱,HMDS镀膜烘箱
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具体成交价以合同协议为准
2023-10-03 20:08:54
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上海隽思实验仪器有限公司

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产品简介

HMDS真空烘箱,HMDS镀膜烘箱通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。

详细介绍

HMDS真空烘箱,HMDS镀膜烘箱的用途:
  HMDS真空烘箱,HMDS镀膜烘箱通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。

的特点:

1、安全性高、更加环保,HMDS是有毒化学药品,人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激、呼吸道等,由于整个过程是在密闭的环境下完成的,所以不会有人接触到药液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机,所以也不会对环境造成污染。 

2、hmds熏蒸机效率高,液态涂布是单片操作,而本系统一次可以处理多达8盒(4寸)的晶片,甚至更多

3、预处理性能好,由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理,所以不会有尘埃的干扰,再者,由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在容器里先经过100℃-160℃的去水烘烤,再接着进行HMDS处理,不需要从容器里传出,而接触到大气,晶片吸收水分子的机会大大降低,所以有着更好的处理效果。

4、均匀性好,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。

5、hmds烘箱更加智能化,智能型的程式设定,一键完成作业。HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。当HMDS液位过低时发出报警提示。

的技术规格:

1.设备名称

  

2、设备型号

  JS-HMDS90

3、设备主要技术参数                                                          

3.1 工作室尺寸

  450×450×450mm(可定做)

3.2 产品架

  2层

3.3 温度范围

  RT+10-250℃

3.4 温度分辨率

 0.1℃

3.5 温度波动度

 <±1℃

3.6 真空度

 ≤133pa

3.7 洁净度

class 100,设备采用无尘材料,适用100级光刻间净化环境

3.8电源及总功率

   AC 220V±10%     50HZ       总功率  约2.5KW    

3.9 控制仪表

  人机界面

3.10显示分辨率

 时间:0.1min

3.11真空泵

 油泵或干泵

 

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