OAP烘箱，OAP处理烘箱的工艺

   光刻的作用是把掩模版上的各形转换成晶圆十的器件结构，它对集成电路图形结构的形成，如各层薄膜的各形及掺杂区域等，均起着决定性的作用。光刻的基本流程中第一步，前处理就是需要将基片亲水性改为疏水性，即OAP(HMDS预处理)工艺。

OAP烘箱，OAP处理烘箱简介

   OAP处理烘箱，也称为HMDS烘箱、HMDS预处理系统。用HMDS溶液:六甲基二硅胺烷)成底膜进行表面处理，它起到提高粘附力的作用，在硅片成底膜操作后尽快涂胶。OAP烘箱是采用气相成底膜的方式来完成HMDS的涂覆工艺，优点是，整个工艺在密闭的环境中，外界没有与硅片接触减少了来自液体HMDS颗粒沾污的可能，HMDS的消耗量也小。

OAP烘箱指标

HMDS药液泄漏报警提示功能

HMDS低液位报警提示功能

工艺数据记录功能

HMDS管道预热功能

程序锁定保护等功能

尺寸（深*宽*高）

内腔尺寸：450×450×450（mm）（可定制）

材质：外箱采用优质冷轧板喷塑，内箱采用 316L 科研级不锈钢

温度范围：RT+50-200℃

温度波动度：≤±0.5

真空度：≤1torr

HMDS控制：可控制HMDS 药液添加量

真空泵：无油涡旋真空泵