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台式磁控溅射仪
该系统可以作为以下功能装置：
1，研发级R&D镀膜设备，性能优异
2，具备所有研发级别的镀膜要求
3，高效的沉积速率，镀膜时间快
4， 实验室中培训的工具
台式磁控溅射仪
主要的特点和*的功能：
1， 台式，小型，快速
2，全自动化程序控制
3，单靶或多靶联合溅射镀膜，多路气体管路
4，共聚焦设计，靶枪尺寸：2英寸，3英寸，4英寸，衬底可做到200mm，旋转1-20RPM，以及Load-lock配置
5，配置干泵+分子泵，可达高真空，适用高品质薄膜沉积。
6， 可做直流溅射，射频溅射，100W射频偏压（用于衬底表面清洗）
性能价格比高！！
