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产品介绍：
KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S型高温真空CVD设备由KJ-T1200滑动式快速退火管式炉+真空系统+供气系统组成 ，温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三温区等，极限真空可以达到10-3Pa，供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计，混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合，可以对多种气体进行精确的混气，然后导入到管式炉内部。
KJ-T1200-S6015LK1-H系列快速退火炉炉管两端安装真空法兰，真空度用分子泵可以到10-5Torr，机械泵可到10-3Torr。炉底安装一对滑轨，可用手动滑动。加热和冷却速率可达100°C/m。为取得加热，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品位置。为获得冷却，可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/s，是低成本快速热处理的理想炉子。
应用范围：
KJ-T1200-S6012CK-3F5S型高温真空CVD设备是一种特殊的高真空CVD系统，广泛应用于半导体工业中沉积薄膜材料，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
规格参数：
| 结构 | 采用双层壳体结构，并带有分冷，使得壳体表面的温度小于55°C。保温材料采用高纯氧化铝多晶纤维可以环保节能，减少热量的损失内炉膛表面涂有进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率，同时也可以延长仪器的使用寿命 | |
| 加热元件 | 掺钼合金加热丝 | |
| 工作温度 | 1100°C | |
| 温度 | 1200°C | |
| 升温速率 | 20°C/min | |
| 加热区长度 | 400mm (18") | |
| 恒温区长度 | 180mm(+/-1°C) | |
| 温控系统 | 一个精密温度控制器 PID方式控制，通过可控硅 SCR可设置30段升降温程序。 | |
| 控温精度 | +/-1°C | |
| 炉管材质和尺寸 | 石英管 ID: 72mm x OD: 80 mm x 1000 mm | |
| 密封法兰 | 两个不锈钢密封法兰，法兰上已经安装数字式真空显示计，和阀门通过机械泵真空压力可以达到5x10-2 torr，泄漏率6 mtorr/min | |
| 输入电源 | AC 208~240V, 单相, 50/60Hz, 功率：5KW | |
| 真空泵和配件 | 真空泵 | 一个双旋片式机械泵安装在移动架内通过此机械泵真空度可以达到 5x10^-2 torr |
| 配件 | 标配的真空配件: 一对不锈钢 密封法兰和KF-25 真空泵接口，两个不锈钢针阀， 1/4"的软管接头一个1000mm长的KF-25 不锈钢波纹管和四个KF-25不锈钢快速卸装卡箍一个LED数字式真空显示计（测量范围： 0.1mtorr ~ 850 torr) | |
| 气体流量计 | 4个浮子流量计，可同时混入4种不同气体。 四通道控制 精度0.02% 、数字显示、自动控制、 一个混气罐、底部装有泄废液口 MFC 1范围 0~100 sccm MFC 2和3 0~500 sccm 进气接口 1/4NPS 出气接口 1/4NPS | |
| 产品尺寸 | 外径80 & 1000mm 的氧化铝石英管 炉体尺寸：550 x 500 x 700mm L x W x H 混气系统：: 600 x 600 x 700mm 真空机组： 600 x 600 x 700mm | |
标准配件：
浮子混气系统1台、双旋机械泵1台、K型热电偶1支、气炼石英炉管1根、不锈钢法兰1套、不锈钢炉钩1、刚玉炉塞2对、高温手套1副、刚玉坩埚2个、说明书1份
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