设备用途

本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专用理想设备。

应用领域

半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业领域。

性能参数

设备名称：1200度管式炉

设备型号：JKR1200-60

炉管材质：石英管

炉管尺寸：外径60*内径50*长度1000*壁厚5mm

加热区尺寸：300

恒温区尺寸：120

工作温度：≤1100度(连续)

工作电源：单相220V 50/60Hz 4Kw

加热元件：电阻丝加热

升温速率：推荐10℃/min

测温元件：K分度号热电偶

温控仪表：数显仪表，30段PID可编程控制。

控温精度：±1℃

保温结构：三梯度保温结构，炉衬+纤维板+纤维棉

保温耐材：氧化铝纤维材料，保温效果好，热能损耗少。

炉体结构：内胆+外壳双层钣金，中间通风有效降低外部温度。

炉管装配：炉管横穿炉膛。

气密结构及性能

充气正压：≤ 0.02MPa

可通气体：惰性气体和还原性气体等。

法兰(炉管两端配有不锈钢密封CF法兰，包括精密针阀、指针式真空压力表、软管接头，若有需求，可选配以下法兰)

1、聚四氟乙烯法兰，用于有腐蚀环境。

2、水冷法兰，用于防止密封圈老化。

3、KF法兰，用于真空实验需求。

性能

断偶报警、超温报警、开门断电(可选)。

可选扩展功能