硅片气氛保护实验辊道炉

硅片气氛保护实验辊道炉

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-11-14 15:39:23
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宜兴市金凯瑞炉业有限公司

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产品简介

设备用途:主要生产硅片氧化性无尘生产实验。详情欢迎。

详细介绍

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一、设备名称:硅片气氛保护辊道炉

二、设备用途:主要生产硅片(156x156x0.2mm)氧化性无尘生产实验

三、主要技术参数

3.1炉膛尺寸:1380×500×100(L×W×H)mm

3.2外形尺寸:1980×1500×1100(L×W×H)mm

3.3额定温度:1300℃

3.4工作温度:1000℃

3.5控温精度:≤±2℃

3.6炉内温差:≤±5℃

3.7炉外温度:≤±40℃

3.8控温组数:3温区3个控温表

3.9工作速度:全窑按5min计算,400mm/min,

3.10调速范围:120~700mm/min,

3.11加热方式:电加热,炉内的上部安装

3.12加热元件:硅碳棒,上部安装

3.13加热功率:36 KW

3.14保温功率:25KW

3.15加热长度:1080mm

3.16炉衬材质:整条设备炉内采用刚玉材质作为炉膛

3.17保温材料:轻质保温砖和纤维棉

3.18保温层次:底部330mm,两侧面各350mm,炉顶400mm

3.19控制柜:独立全自动控制

3.20设备结构:共1段

3.21冷却方式:自然冷却

3.22输送方式:45°斜齿轮传动

3.23速度控制:无极变频控制

3.24进气类别:氮气和氧气

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