离子渗碳炉

离子渗碳工艺介绍：

离子渗碳工艺是在真空中加热工件，并有高能离子的轰击，致使被处理件表面洁净与活化，再加上渗碳气体由于热分解与电离的双重作用，并在直流脉冲电场的作用下，使得工件表面附近的空间在短时间内就形成高的碳离子浓度区，从而加速了碳向工件的渗入与扩散，大大缩短渗碳时间。例如880℃，1h的离子渗碳就可获得0.6mm深的硬化层，同常规气体渗碳相比，可以缩短约50%的时间。

离子渗碳炉结构简介：

离子渗碳炉是在真空容器中，利用辉光放电使渗碳气体电离，所产生的碳离子在电场作用下轰击炉料表面进行渗碳的热处理炉。汉口电炉公司研制的离子渗碳炉技术*，获得用户广泛应用和好评。

离子渗碳炉有电气控制系统、真空炉体、渗碳气体配气系统、真空测量及控制系统等几大部分组成，炉体的直径和高度可根据工件的尺寸进行设计。

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