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TN-G1100ZC高真空CVD管式炉
该仪器是一个三温区真空管式炉主要用于大专院校、科研院所、工矿企业等试验和小批量生产之用。主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
TN-G1100ZC高真空CVD管式炉
仪器的控制系统采用*产品，具有操作容易，安全可靠，控温精度高（专家PID控制），保温效果好，温度范围大，炉膛温度均匀性高，温区多，可通气泵，抽真空等特点。
1 | 产品名称 | TN-G1100ZC型高真空CVD管式炉 |
2 | 产品型号 | TN-G1100ZC-503 炉膛尺寸：直径50x300mm |
TN-G1100ZC-603 炉膛尺寸：直径60x300mm | ||
TN-G1100ZC-803 炉膛尺寸：直径80x300mm | ||
3 | 炉门结构 | 开启式 |
4 | 上限温度 | 1200℃ |
5 | 工作温度 | ≤1100℃ |
6 | 加热温区 | 三温区 |
7 | 温区长度 | 220mm |
8 | 恒温区长 | 100mm |
9 | 炉管材质 | 301S不锈钢管（可选刚玉管） |
10 | 密封方式 | 不锈钢真空法兰 |
11 | 气密性 | 真空法兰和石英炉管的气密性可达4.03x10-3Pa |
12 | 控温方式 | 智能化30段可编程控制，自动控温 |
13 | 控温精度 | ±1℃ |
14 | 加热速率 | ≤20℃ |
15 | 加热元件 | 硅碳棒 |
16 | 热电偶 | K型热电偶 |
17 | 炉膛材料 | 进口氧化铝陶瓷纤维 |
18 | 功率 | 2.5Kw |
19 | 电压 | 220V 50Hz-60Hz |
20 | 系统真空 | 5～10Pa（需要达到其它真空度时，需选配不同的抽真空装置） |
21 | 售后服务 | 12个月质保，终身保修 |
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