HS-1200HZ-CVD电炉由滑动式开启式真空管式炉，混气系统，真空及压力系统等组成。此系统烧结温度可达1200℃，通过滑动炉体来实现快速的升降温；配置不同的真空系统来达到理想的真空度；同时通过三路高精度质量流量计控制不同气体。
产品用途：
高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备
HS-1200HZ-CVD电炉
产品参数
- 炉体结构：双层炉壳间配有风冷系统，有效保证外壳表面温；真空吸附成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛，保温性能好
- 电源电压：AC220V 50/60Hz；
- 功率：4KW
- 炉管材质：高纯石英管，高温下化学稳定性强，耐腐蚀，热膨胀系数极小
- 炉管尺寸：Φ40/60/80/100*1200mm
- 加热系统：加热元件采用优质合金丝0Cr27Al7Mo2，表面负荷高、经久耐用
- 加热区长度：440mm
- 恒温区长度：200mm
- 工作温度：≤1150℃
- 高温度：1200℃
- 升温速率：10℃/min
- 温控系统：温度控制采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能30段升降温程序
- 测温元件：N型热电偶
- 恒温精度：±1℃
- 混气系统：三路质量流量计：数字显示、气体流量自动控制
- 内置不锈钢混气箱，每路气体管路均配有逆止阀
- 管路采用不锈钢管，接口为Φ6卡套
- 每路气体进气管路配有不锈钢针阀
- 通过控制面板上的旋钮来调节气体流量
- 流量规格：0~1SLM
- 流量精度：±1.5%
- 极限真空：6.0×10-5Pa
- 工作真空：7.6×10-4Pa
- 标准配件：数显式真空压力表；可选高真空系统及真空计，压力控制系统等
- 可选配件：混气系统,中、高真空系统，各种刚玉、石英坩埚，石英管，计算机控制软件，无纸记录仪，氧含量分析仪。
