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这套具有无掩模光刻技术的便利,大大提高无掩膜影印和新产品研发的效率,节省时间,是的无掩模光刻系统。
无掩模光刻价格
这款无掩模光刻机直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上。
无掩模光刻系统,无掩膜光刻机特色
尺寸:925x925x1600mm
内置计算机控制接口
激光光源:375nm或405nm
视频辅助定位系统
自动聚焦设置
无掩模光刻机,无掩膜光刻机参数
线性写取速度:>500mm/s
重复精度: 100nm
晶圆写取面积:1—6英寸
衬底厚度:250微米-10毫米
激光点大小:1-100微米
准直精度:500nm