无掩膜光刻机

FPKLO-UV无掩膜光刻机

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2022-05-23 08:00:02
35
产品属性
关闭
孚光精仪（中国）有限公司

孚光精仪（中国）有限公司

初级会员第1年
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

这套无掩膜光刻机具有无掩模光刻技术的便利，大大提高无掩膜影印和新产品研发的效率，节省时间，是*的无掩模光刻系统。

详细介绍

这套具有无掩模光刻技术的便利，大大提高无掩膜影印和新产品研发的效率，节省时间，是的无掩模光刻系统。

无掩模光刻价格
这款无掩模光刻机直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上。
无掩模光刻系统，无掩膜光刻机特色
尺寸：925x925x1600mm
内置计算机控制接口
激光光源：375nm或405nm
视频辅助定位系统
自动聚焦设置
无掩模光刻机，无掩膜光刻机参数
线性写取速度：>500mm/s
重复精度： 100nm
晶圆写取面积：1—6英寸
衬底厚度：250微米-10毫米
激光点大小：1-100微米
准直精度：500nm

 

上一篇：正确使用电位滴定仪的方法 下一篇：真空乳化机的原理及结构组成
提示

请选择您要拨打的电话：

27171 [{"ID":"747913","CompanyID":"64211","Title":"正确使用电位滴定仪的方法","Picture":"","PictureDomain":"","UpdateTime":"2024/9/29 7:43:19","CreateTime":"2024/9/29 7:43:19","ClassName":"技术交流","rn":"3"},{"ID":"746920","CompanyID":"48414","Title":"真空乳化机的原理及结构组成","Picture":"","PictureDomain":"","UpdateTime":"2024/9/23 7:40:07","CreateTime":"2024/9/23 7:40:07","ClassName":"技术交流","rn":"4"}]