这款紫外曝光机非常适合对紫外光敏感层曝光处理，是理想的紫外掩膜曝光机系统和掩膜对准机,mask aligner.紫外曝光机广泛用于光学，生物，微纳科技，光刻等领域需要1-2掩膜的应用。

紫外掩曝光机特点

1)*的单色曝光，曝光带宽小于10nm;

2)冷紫外曝光，衬底环境温度实时控制，从而实现均匀曝光，消除热效应；

3）*的功率密度

4） 紫外LED寿命更长，高达10000小时；

5）方便用户使用的触摸屏配置；

6） 不需要预热；

7）计算机控制紫外光源强度调节；

8）自动晶圆装载和卸载功能；

9）超低能耗；

紫外掩曝光机参数

分辨率：2微米

发射光谱：365+/-5nm,  385+/-5nm
4英寸晶圆照明： 25mW/cm^2 +/-10%

暴晒时晶圆温度加热:<1摄氏度
暴晒循环：1秒~18小时
记忆的曝光循环数： 10个

功率：180W

重量：8.2kg

尺寸: 260x260x260mm^2
电源： 110V/230v50Hz