八工位真空吸附抛光机

YH2M81118八工位真空吸附抛光机

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-11-01 10:03:31
11
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品牌:宇环数控/YUHUANCNC;
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宇环数控机床股份有限公司

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产品简介

八工位真空吸附抛光机YH2M81118主要用于铝合金、不锈钢等金属材料和玻璃、陶瓷等非金属材料的平面及2.5D和3D曲面的全自动扫磨抛光。

详细介绍

八工位真空吸附抛光机YH2M81118主要特点

1.   工作时,将工件放置在工件盘治具上,利用真空吸附将工件固定在治具上,毛刷盘固定在上盘面,下上盘逆向旋转,抛光液由喷液管均匀流到Lower plate,利用毛刷、抛光液与玻璃之间的摩擦力实现对玻璃弧面的抛光,其抛光工作流程为:设备就绪-工件盘定位-自动上料-工位盘定位-抛光-完成一次抛光-工位盘定位-自清洁-自动下料-循环(其中,自动上下料-工位盘定位-自清洁与抛光制程可实现不停机循环进行)。

2.  本机下上盘均由数控程序精准定位控制,按工艺要求实现无极调速,以满足不同抛光工艺要求。八个工件盘由伺服电机控制,实现精准定位。

3.抛光盘的加压由伺服电机驱动滚珠丝杠在直线导轨上进行位移,精确控制抛光盘上下位移,来保持压力稳定,确保抛光精度。

4.  本机所有能接触到抛光液的液槽、箱体面板、接液盆,均采用不锈钢或铝合金等耐腐蚀材质。

5.  设备真空系统配置有数显真空压力表,实时监控负压,以防欠压掉片。

6.  设备配置真空气液分离装置,自动排液;

7.  本机采用人机界面HMI(15寸大触摸屏)与可编程控制PLC相结合,操作方便快捷,界面友好,信息量大。


八工位真空吸附抛光机YH2M81118技术参数


项目Item

产品型号Model

单位

Unit

YH2M81118

Lower plate尺寸(外径×厚度)

Lower plate size(OD×Thickness)

mm

φ400mm×25mm(铝合金)

φ400mm×25mm(Aluminum alloy)

上盘尺寸(外径)

Upper plate size(OD)

mm

φ1160mm

抛光头数量

Number of polishing head

8

Lower plate转速

Lower plate speed

rpm

2~45±2 rpm

上盘转速

Upper plate speed

rpm

5~90±2 rpm

Z轴快移速度 Z axis movement speed

min

0~2.5m/min

Z轴行程 Z axis travel

mm

350mm

机床外形尺寸(长×宽×高)

Overall dimensions(L*W*H)

mm

2430*1935*2575mm

整机重量

Total weight

Kg

4050Kg


YH2M81118主要用途

本机床主要用于铝合金、不锈钢等金属材料和玻璃、陶瓷等非金属材料的平面及2.5D和3D曲面的全自动扫磨抛光,包括机械手自动上下料、自动磨液监测(磨液流量、磨液温度)、自动气液分离等多种自动化功能模块。


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