高精度高效率平面抛光机

YH2M8432C高精度高效率平面抛光机

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-11-01 09:41:22
13
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品牌:宇环数控/YUHUANCNC;
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宇环数控/YUHUANCNC
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宇环数控机床股份有限公司

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产品简介

高精度,高效率平面抛光机,双面研磨设备  该机床主要用于阀板、阀片、磨擦片、刚性密封圈、气缸活塞环、油泵叶片等金属零件的双面研磨和抛光;也可用于硅、锗、石英晶体、玻璃、陶瓷、蓝宝石、砷化镓、铌酸锂等非金属硬脆材料薄片零件的双面研磨和抛光。

详细介绍

高精度,高效率平面抛光机,双面研磨设备主要用途: 
该机床主要用于阀板、阀片、磨擦片、刚性密封圈、气缸活塞环、油泵叶片等金属零件的双面研磨和抛光;也可用于硅、锗、石英晶体、玻璃、陶瓷、蓝宝石、砷化镓、铌酸锂等非金属硬脆材料薄片零件的双面研磨和抛光。 
 

高精度,高效率平面抛光机,双面研磨设备产品技术特点: 
(1)该机为三电机控制,上抛光盘及太阳轮各由独立减速电机驱动,下抛光盘及内齿圈同步驱动,控制灵活,工艺范围广; 
(2)内齿圈通过凸轮机构实现升降,操作方便,升降灵活可靠; 
(3)柱销型游星轮,耐磨损,使用寿命高; 
(4)双层推拉门式防护,维护方便,防护可靠; 
(5)柔性加载系统,精密电气比例阀控制,加压稳定可靠,压力均匀精度高; 
(6)上抛光盘设有安全自锁装置,与程序互锁,确保操作安全性; 
(7)触摸屏人机操作界面,PLC控制,界面友好,信息量大; 
(8)可选配恒温冷却系统,满足精密抛光。

高精度,高效率平面抛光机,双面研磨设备

项目

单位

YH2M8432C

上抛光盘尺寸(外径×内径×厚度)

mm

Φ1070mm×Φ495mm×45mm

下抛光盘尺寸(外径×内径×厚度)

mm

Φ1070mm×Φ495mm×45mm

zui大加工压力

Kgf

300Kgf(抛光垫及毛刷抛光)

加工件zui小厚度

mm

0.4mm(为直边工件)

加工件zui大尺寸

mm

290mm(矩形件对角线290mm)

被加工件精度

 

在来料平行度0.005以内时保证平行度0.005

上研磨盘转速

rpm

5-50转/分(无级调速)

下研磨盘转速

rpm

Lower plate speed:5-45rpm

外形尺寸(约:长×宽×高)

 

1600mm×1440mm×2700mm(2.3㎡)

外型尺寸(约:长×宽×高)

mm

1600×1625×2150

整机重量

kg

3200Kg

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