小型快速退火炉

此款小型快速退火炉是集成仪最巧妙的结构设计和的加热方式与一体，使得体积和功率都大幅减小的同时，升降温速率却比传统退火炉提升了数倍之多。它既可以通气氛又可以抽真空，满足了很多用户对小样品快速退火的工艺要求。　　应用范围：　　Ø快速热退火(RTA);离子注入后退火　　Ø石墨烯等气象沉积，碳纳米管等外延生长　　Ø快速热氧化(,RTO);热氮化(RTN);　　Ø硅化(Silicidation);　　Ø 参考价面议

多功能快速退火炉

快速热处理退火炉简称RTP(RapidThermalProcessingFurnace)，由我公司借鉴了制造工艺，在管式炉的基础上自主研发而成。这款不但拥有很快的升温速率100℃/S，而且降温速率也有了质的飞跃，降温速率100℃/S。　　应用领域　　Ø快速热退火(RTA);离子注入后退火　　Ø石墨烯等气象沉积，碳纳米管等外延生长　　Ø快速热氧化(,RTO);热氮化(RTN);　　Ø硅化(S 参考价面议

升降炉

商品简述：　　该产品为升降炉。　　具有以下突出优点：　　1.全新的操控界面：自主研发的触摸屏智能化控制系统　　2.科学的温场分布：合金加热丝在炉膛内呈圆周型竖状排列，使得温场更加均匀。　　3.合理的操作平台：可以选配电脑软件接口,通过电脑上位机进行全程监控和操作。　　真空升降炉技术参数：1产品型号wayes-1200/1400/17002炉膛模式自动升降式3显示模式触摸屏4极限温度1200℃/14 参考价面议

CVD镀膜设备

北京维意真空技术应用有限责任公司创立于2013年6月，主体经营分为真空配件销售、真空设备定制、浅蓝纳米科技三个部分，是北京从事真空产品设计、制造、销售、维修、保养于一体的专业性的公司，公司拥有一支专业的产品技术工程师和维修技术工程师，具有丰富的行业经验。
公司于2016年初至2017年末，陆续投入大量研发资金，针对等离子增强化学气象沉积设备、原子层沉积设备和高低 参考价面议

真空阀门

承接各种非标定制阀门
北京维意真空技术应用有限责任公司，主体经营分为真空配件销售、真空设备定制、浅蓝纳米科技三个部分，是北京从事真空产品设计、制造、销售、维修、保养于一体的专业性的公司，公司拥有一支专业、优秀的产品技术工程师和维修技术工程师，具有丰富的行业经验。 参考价面议

管道加热器

柔性可拆卸加热器采用耐高低温、防火保温材料；有内衬、中间保温层、外保护层三层组成；根据管道或设备的具体形状及其使用环境，经过精心设计、测绘后，通过特殊工艺制作而成。它是目前高档的管道、设备绝热保温材料。它可用在不同温度，不同形状的管道和各种冷热设备的绝热　保温。对于要经常拆卸、维修保养、清洗的管道设备尤为实用。其综合经济效益好。是工业节能保温理想选择！ 参考价面议

源瓶加热器

柔性可拆卸式设计，根据承受温度和使用环境的不同选择相应的内外层和中间保温隔热层材料,保证保温隔热套能够承受在尽量大的温度范围内使用,能够具有耐磨、抗油、防水、耐腐蚀、抗老化等特性,按照被保温隔热设备的外形尺寸进行定制，保证保温隔热套与被保温体尽量贴合大的降低热散失。被广泛的用于原子层沉积设备（ALD设备）以及MOCVD设备当中作为源瓶的加热装置。 参考价面议

PE型原子层沉积镀膜设备

PE-ALD等离子体增强原子层沉积系统是专门为特殊应用领域的科学研究与工业开发用户而设计的单片沉积系统，系统电气*符合CE标准；该系统扩展了普通原子层沉积系统对前驱体源的选择范围、提高薄膜沉积速率和降低沉积温度，广泛应用于对温度敏感材料和柔性衬底上薄膜的沉积。 参考价面议

T型原子层沉积镀膜设备

设备概述:
T-ALD原子层沉积系统是专门为科研和工业小型化量产用户而设计的多片沉积系统。该系统电气*符合CE标准，广泛应用于微电子、纳米材料、光学薄膜、太阳能电池等领域。
产品优势:

*的软件控制系统：系统集工艺配方、参数设置、权限设定、互锁报警、状态监控等功能于一体。 参考价面议

真空气氛箱式炉--维意真空

真空马弗炉主要为高等院校，科研院所等单位的实验室选提供具有真空、可控气氛及高温的试验环境，应用在半导体,电子陶瓷产品、纳米技术、碳纤维、高温热解低温沉淀（CVD）、镀膜等新材料新工艺领域。 参考价面议

高真空气氛马弗炉--维意真空

真空马弗炉主要为高等院校，科研院所等单位的实验室选提供具有真空、可控气氛及高温的试验环境，应用在半导体,电子陶瓷产品、纳米技术、碳纤维、高温热解低温沉淀（CVD）、镀膜等新材料新工艺领域。 参考价面议

1真空感应熔炼炉

Wayes-ZG系列真空炉主要用途：
　　主要应用于铁基、镍基、钴基合金及其它精密合金、高温合金、磁性材料的熔炼。
　　实现真空熔炼、气氛熔炼、真空浇铸、精密铸造、离心铸造、下引铸造、定向凝固、快速冷却、精炼提纯等工艺 参考价面议