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HMDS烘箱结构，HMDS涂布机原理

来源：上海隽思实验仪器有限公司2022/1/31 23:40:015545

导读:

HMDS烘箱结构，HMDS涂布机原理

HMDS，即六甲基二硅胺，是半导体光刻工艺中一种常见的耗材。HMDS是一种易挥发的化学品，传送到工艺腔的HMDS是以气态形式存在的，其均匀附着在晶圆表面，形成HMDS膜层。

HMDS烘箱结构，HMDS涂布机原理

现有技术中，涂布过程一般先在氮气的保护下对晶圆进行加热，同时通入HMDS进行涂布，但由于前期氮气的通入，为了保证HMDS的浓度及扩散效果，必须增加HMDS的通入量，才能使其浓度达到一定范围，这样势必造成HMDS的浪费，且HMDS为有害气体，过高浓度的排放会对环境造成严重破坏。

HMDS烘箱，HMDS涂布机技术参数

工作室尺寸	350×350×350、450×450×450、850×850×850（mm）可自定义
材质	外箱采用冷轧板喷塑或304不锈钢，内箱采用316L医用级不锈钢
温度范围	RT+10-250℃
真空度	≤133pa（1torr）
洁净度	class 100，设备采用无尘材料，适用100级光刻间净化环境
控制仪表	人机界面
搁板层数	2层
HMDS控制	可控制HMDS药夜添加量
真空泵	旋片式油泵（可选配进口无油泵）
保护装置	HMDS低液位报警，HMDS自动添加，超温保护，漏电保护，过热保护等

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