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一、紫外光耐候试验箱控制和保护系统：

1.  智能型触摸屏温控仪，控制精度±0.1℃；

2.  薄膜式 KEY BOARD按键；

3.  温度控制均采用P . I . D ＋S . S . R，系统同频道协调控制，可提高控制元件与界面使用之稳定性及寿命；

4.  触控式设定、数位及直接显示；

5.  具有P . I . D 自动演算之功能，可减少人为设定时带来之不便；

6.  光照和冷凝可独立控制也可以交替循环控制；

7.  光照和冷凝的独立控制时间和交替循环控制的时间可在一千小时内任意设置；

8.  在运转或设定中，如发生错误时，会提供警示迅号；

9.  法国“施耐德”电气元器件；

二、紫外光耐候试验箱温度控制：  

    UV循环

     一级的光化学反应对温度变化并不敏感。然而，随之而来的二级反应的速度则和温度变化紧密相关。一般来说，随着温度升高，反应速度会加快。因此，在UV曝晒试验过程中，温度控制就显得很重要，更重要的是要将加速试验所采用的试验温度与材料在实际应用中遭遇的高温度相匹配。在设备中UV的温度设置可以是从50℃到90℃中的任何一点，具体取决于光照度水平和室内环境气温。设备的温度调节是通过具有微电脑演算功能的控制器来指挥设备内诸如空气加热器、水加热器、等一系列系统来完成。

 三、紫外光耐候试验箱湿气循环：

   随着温度的提高，潮湿对材料的破坏力会急剧增加。因此在潮湿曝晒过程中，温度控制是基本的要求。更进一步说，要产生加*果，就要求在潮湿曝晒过程中保持高温环境。在设备中冷凝过程温度设置可以是从40℃到80℃中的任何一点。

四、紫外光耐候试验箱加热系统：

1.采用U型钛合金高速加温电热管；

2.温度控制与光照*独立系统；

3.温度控制输出功率均由微电脑演算，以达高精度及率之用电效益；

4.具有加热系统的防超温功能；