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背刺三星台积电绕过2nm:直奔1.4nm去了

来源:快科技2022/5/23 10:01:17116
导读
台积电的3nm依然延续的是FinFET(鳍式场效应)晶体管结构,而非三星那套难度更高的GAA晶体管。然而,台积电明显道行更深,知道当前制程节点命名混乱,谁的良率高显然更能占得先机。
  台积电已经多次明确,3nm将在下半年规模投产。
 
  不过,台积电的3nm依然延续的是FinFET(鳍式场效应)晶体管结构,而非三星那套难度更高的GAA晶体管。然而,台积电明显道行更深,知道当前制程节点命名混乱,谁的良率高显然更能占得先机。
 
  而接下来,台积电似乎不打算糊弄了,甚至要绕过2nm,直奔1.4mm。
 
  BK报道称,台积电3nm研发团队将在6月份全面转投1.4nm节点的开发工作。
 
  对手三星在去年的代工会议上曾预期,2025年量产2nm,没想到又一次被台积电“背刺”了。
 
  至于同样雄心勃勃的Intel,则打算2024年下半年生产1.8nm工艺产品。一场关乎摩尔定律荣耀的制程“军备竞赛”,再度拉开序幕了。
 
  原标题:背刺三星 台积电绕过2nm:直奔1.4nm去了

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