*纳米分散胶体磨高剪切胶体磨

*纳米分散胶体磨高剪切胶体磨

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具体成交价以合同协议为准
2022-06-10 20:40:04
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太仓希德机械科技有限公司

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产品简介

*纳米分散胶体磨是对流体物料进行精细加工的机械。它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能,具有*的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后,粒度达2~50微米,均匀度达90%以上,是超微粒加工的理想设备。

详细介绍

品牌SID/希德产地进口
产品新旧全新结构类型立式
产品大小中型自动化程度全自动
分类立式胶体磨应用领域机械,五金,制药,食品,化工,其他

*纳米分散胶体磨,*高剪切分散机,*实验室研磨分散机,医用*药剂均质机

一、*的简介

*,白色固体或粉末状的两性氧化物,分子量:79.9,是一种白色无机颜料,具有无毒、较佳的不透明性、较佳白度和光亮度,被认为是性能较好的一种白色颜料。钛白的粘附力强,不易起化学变化。广泛应用于涂料、塑料、造纸、印刷油墨、化纤、橡胶、化妆品等工业。它的熔点很高,也被用来制造耐火玻璃,釉料,珐琅、陶土、耐高温的实验器皿等。

同时,*有较好的紫外线掩蔽作用,常作为防晒剂掺入纺织纤维中,超细的*粉末也被加入进防晒霜膏中制成防晒化妆品。

*可由金红石用酸分解提取,或由四氯化钛分解得到。*性质稳定,大量用作油漆中的白色颜料,它具有良好的遮盖能力,和铅白相似,但不像铅白会变黑;它又具有锌白一样的持久性。

二、*的研磨

生产出来的*有时品质不高,粒径为微米级,在后期应用过程中需要进一步的研磨细化粒径,结合多家客户案例,推荐XMD2000系列高剪切胶体磨进行研磨细化处理,一般循环处理,粒径可至纳米级。XMD2000系列高剪切胶体磨,有着18000rpm的转速,三层错齿结构的高精密磨头,研磨细化效率高。

三、*胶体磨介绍:

1、SID胶体磨具有设计紧凑、实用方便,外形美观、密封良好、性能稳定、操作方便、装修简单、经久耐用、适应范围广、生产效益高等特点、是处理精细物料理想的加工设备。

2、SID高剪切胶体磨是对流体物料进行精细加工的机械。它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能,具有*的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后,粒度达2~50微米,均匀度达90%以上,是超微粒加工的理想设备。

3、该机适用于制药、食品、化工及其他行业的湿物料超微粉碎,能起到各种半湿体及乳状液物质的粉碎、乳化、均质和混合,主要技术指标已达到国外同类产品的*水平。

四、影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

1、胶体磨磨头头的剪切速率 (越大,效果越好)

2、胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

3、物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

4、循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

六、超高速胶体磨与国内胶体磨的性能比较:

1、转速和剪切速率:SGN纳米胶体磨,可选择德国机械密封,转速可以达到15000转F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1国内胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440S-1通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍

2、胶体磨头和间距:纳米胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,XM胶体模块,GMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块。间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工国内胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差

3、机械密封:纳米胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至低,可24小时不停运转国内胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁

七、XMDS2000系列*纳米分散胶体磨型号表

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

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