*高速胶体磨
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XMD*高速胶体磨

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2021-12-14 12:06:00
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太仓希德机械科技有限公司

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产品简介

*高速胶体磨具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

详细介绍

*高速胶体磨,*胶体磨厂家,*胶体磨价格,德国*胶体磨。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,***小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

*是广泛使用的白色素,如油漆、防晒霜和药片包衣。通常市场上都提供不同级别的粉末产品,但是实际使用时还会对细度提出新的要求。同时,这类粉体碰到液体时极易团聚。SID系列混合分散设备为快速分散而设计,达到窄粒径分布,并防止结块。

*胶体磨缩短工艺时间。高剪切乳化分散设备可以迅速地混合分散*粉末,并消除结块和团聚。也提供PLD和PLC粉体/液体混合机,将粉体直接加入液体,无需循环处理,一次性通过便可成型。

*胶体磨,*胶体磨厂家,*胶体磨价格,德国*胶体磨。由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

二氧化硅胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。

2000系列二氧化硅胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

*胶体磨,*胶体磨厂家,*胶体磨价格  ,德国*胶体磨。三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,小的转速可以达到18000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。 

二氧化硅胶体磨材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti

*高速胶体磨

研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

以下为型号表供参考:

型号

标准流量

L/H

输出转速

rpm

标准线速度

m/s

马达功率

KW

进口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

1、采用XMD2000/4研磨分散机,进行研磨细化。

2、7L罐体(罐体大小后期可选择)及循环系统,易于批次物料处理。

3、搅拌机进行搅拌预混,提高产品的均匀性。

4、我司研磨分散机为超高速设备(转速18000rpm),需要配冷水机对机械密封进行降温。

5、同时需要配置一台变频器,进行转速调试,设备开关,有利于保护设备。

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