目前，*光电子产品的制造正朝着高精度、高性能、高集成度和高可靠性的方向快速发展，带来的对许多光电子产品部件表面的局部平面度及全局平面度提出的*的高要求（如要求表面粗糙度达到亚纳米量级），当表面粗糙度达到亚纳米量级时，已与原子直径（小于０。３ｎｍ）处于同一数量级，已接近表面精加工的极限。东莞中研从事平面研磨抛光设备的研发多年，深刻认识到要获得这么超镜面的平面效果，细节非常重要，而完善的管理体系，认真负责的工作态度是前提，中研提倡用心铸造每一个零件，用心体会每一个过程，铸造精品服务磨界！

   定制平面研磨机加工工件技术当前是指被加工零件的尺寸和形状精度高于Ｏ．１，表面粗糙度Ｒａ小于０．０２５，以及机床定位精度的分辨率和重复性高于０．０ １的加工技术，目前已进入纳米级精度阶段。超精密抛光大的特点是它不改变工件的面型精度．，只改善其表面粗糙度，超精密抛光可使工件的表面粗糙度值达到纳米级甚至次纳米级。超精密研磨大的特点是能获得*的面型精度，定制平面研磨机比如超精密平面研磨可以使工件的平面度达到十分之一甚至百分之一微米的水平。因此为使工件获得高的面型精度，低的表面粗糙度，一般将超精密研磨技术和超精密抛光技术并提，称为超精密平面研磨抛光技术，取超精密研磨的高精度及超精密抛光的低表面粗糙度，从而加工出非常精密的零件。