用途：

　　高真空烧结炉主要应用于金属器件、陶瓷材料、粉体材料等工件在真空及气氛保护环境下烧结等工艺的生产。一键启动自动完成工艺生产，多条工艺曲线的设定，方便调取使用。

　　特点：

　　采用双层壳体结构和PID30段程序控温系统，移相发、可控硅控制，炉膛采用软质和硬质碳纤维材料，能快速升降温。采用外壳整体密封，盖板和炉门密封均采用高温硅胶0型圈，炉门处装有水冷系统。同时设有冷阱及机组，该炉具有体积小、温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做真空烧结用的理想产品。

　　参数：

　　1、形式：立式/卧式

　　2、加热方式：电阻丝/硅碳棒/硅钼棒

　　3、工作室材料：不锈钢

　　4、工作室结构：圆形

　　5、工作室尺寸：根据生产工艺设计

　　6、真空系统配置：根据使用要求配置

　　7、使用气氛：氮气、氢气