产品介绍

TF200光学膜厚仪介绍   

    TF200薄膜厚度测量系统利用薄膜干涉光学原理，对薄膜进行厚度测量及分析。用从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面，探头同位接收反射光线。TF200根据反射回来的干涉光，用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。测量范围1nm-3mm，可同时完成多层膜厚的测试。对于100nm以上的薄膜，还可以测量n和k值。

TF200光学膜厚仪特点

快速、准确、无损、灵活、易用、性价比高

应用领域

半导体（SiO2/SiNx、光刻胶、MEMS，SOI等）

LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亚酰胺ITO等)

LED (SiO2、光刻胶ITO等）

触摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率测试等)

汽车(防雾层、Hard Coating DLC等）

医学（聚对二甲苯涂层球囊/*壁厚药膜等）

技术参数

注：1.取决于材料0.4%或2nm之间取较大者。

       2.可选微光斑附件。