快速加热高温真空炉HTFF1能够对样品快速加热,精准控制气体环境,是材料科学研究的快加热真空高温炉,它提供高达1500℃的材料热处理温度,并能将微小样品插入到恒温加热区快速加热,材料研究实验周期可以有效缩短。
快速加热高温真空炉HTFF1具有石墨或氧化铝可移动棒样品保持器,可用于在各种气体环境下操作以控制样品环境。
快速加热高温真空炉HTFF1样品棒中心可快速加热至900℃，稳定在在10%温度范围内。并且可提供在2分钟内亏啊苏加热到1200摄氏度，然后将温度降至900°C的模式
快速加热高温真空炉HTFF1采用同心套绝缘氧化铝/氧化硅管包含轴向取向的碳化硅硅碳棒发热。端部支撑法兰在较高的工作温度下水冷。氧化铝工艺室为客户提供洁净、干燥、可控的大气环境。稳定，可编程温度控制，可提供手动或自动系统。
其他尺寸可供选择。

快速加热高温真空炉HTFF1规格

Physical Characteristics:
整体尺寸（不含真空/气体配置）	18"Long x 9" Wide x 10.5" High
标称热称长	12 cm
样品杠直径	石墨或氧化铝，1.25厘米
热区域直径	2.5 cm ID Alumina Tube
加热元件	SiC 电阻
电源	240 VAC/40A Phase Control SCR
配置	Parker/Quick Flange/NPT
重	11 kg

 

操作特性
温度控制	标准PID自动化控制
2000°C能	约 3.5kW
操作压	1 atm.
工作（气体）条件	惰性气体或者真空
冷却	水冷端盖
热区运行温度	2000°C +
中心点温度(+/- 1 cm)	C型热电偶的精度在1°C以内。

快速加热高温真空炉优点
所有的电阻加热炉需要时间加热，从根本上限制样品的加热速率。TvU的快速炉插入样品已经成为一个热炉，实现可能的加热速度。只有辐射炉或燃烧炉才能提供有竞争力的加热速率。