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生长纳米线的CVD炉 --OTF-1200X-4-NW
面议TGA真空气氛管式炉(可选炉体温度1200-1700℃)--OTF-X-TGA
面议小型4通道管式炉(炉管直径25mm,温度1700℃)-- GSL-1700X-MGI-4
面议超声雾化及静电沉降1800℃纳米制备管式炉--GSL-1800X-PGEP
面议800℃超高真空管式炉OTF-1200X-60HV
面议1100℃ 多工位管式炉-GSL-1100X-S
面议1100℃带校准系统管式炉-GSL-1100X-50-LVT
面议1200℃带有温度校准系统的开启式管式炉--OTF-1200X-S50-LVT
面议1200℃开启式管式炉系列--OTF-1200X
面议1200℃小型单温区大口径开启式管式炉--OTF-1200X-5S
面议1500℃单温区开启式管式炉--OTF-1500X
面议1600℃单温区开启式30段可编程管式炉--GSL-1600X-OTF
面议产品详细介绍
VBF-1200X立式箱式炉是以进口电阻丝为加热元件,采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。上开式炉门结构,方便客户放取样品。温度能达到1250℃,可连续工作1000℃,控温精度±1℃。该炉具有体积小、重量轻、温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、质量检测用的理想产品。
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技术参数
名称 | 1200℃立式箱式炉( 9 L)-VBF-1200X |
主要参数 |
温度:1200℃,长期工作温度≦1100℃
升温速率:≦10℃/min
输入电源:AC220V
功率:3.5KW
炉腔尺寸:Ф240×218H mm ,容积为9L
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炉体结构 |
l内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高反射率及设备的加热效率,同时也可以延长仪器的使用寿命。
l采用双层壳体结构,双层炉壳间配有风冷循环系统,使得壳体表面温度小于60℃。(参考值)
l铰链式设计的上盖方便样品的装载
l一个可在炉底安装的耐火圆砖,可防止炉衬磨损
l三个耐火支架,可放在盘面和坩埚底部,调整坩埚高度
l带有过热和断偶保护,并设有开门断电功能
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加热元件 | 掺钼铁铬铝(表面涂有氧化锆涂层,可以极大程度延长使用寿命) |
热电偶 | K型 |
温控系统 |
lPID自动控温系统
l智能化30段可编程控制
l内置过热保护和热电偶故障报警
l控温精度:±1℃
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外形尺寸 | 440 L ×530 W ×600 H mm |
可选 | |
净重 | 70Kg |
保修期 |
一年保修,终身技术支持。
2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。
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