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「设备用途」
采用物理冶金提纯法，主要用于冶金级工业硅粉的提纯，用以制备太阳能级多晶硅原材料。
「技术指标」
| 产品型号 | VITD-2 | |
| 主真空室 | 立式圆筒型真空室，尺寸φ1500×2400mm，双层水冷。 | |
| 真空系统配置 | 扩散泵，罗茨泵，机械泵，高真空气动挡板阀。 | |
| 极限真空度 | 6.6×10-3Pa（冷态），漏率：≤1×10-8Pa.L/s；压升率：≤6.7×10-1Pa./m。 | |
| 感应熔炼系统 | 加热温度 | ≤1600℃。 |
| 水冷坩埚尺寸 | 内径500mm高度600mm。 | |
| 坩埚容量 | 200kg。 | |
| 坩埚运动行程 | 600mm；具有归零位功能；设有位置检测采用数显光栅尺，分辨率1微米。 | |
| 坩埚运动速度 | 5-50mm/h，快速升降速度：5mm/s。 | |
| 在线加料系统 | 可在线添 加辅助元素。 | |
| 测温系统 | 设有两组测温K偶。 | |
| 感应熔炼电源 | 400KW。 | |
