电子束物理法提纯设备-沈阳好智多新材料制备技术有限公司手机版

详细介绍

「设备用途」

采用物理冶金提纯法，主要用于冶金级工业硅粉的提纯，用以制备太阳能级多晶硅原材料。

产品型号	VEBZ-2
主真空室	卧式圆筒型真空室，尺寸φ1000×2000mm，双层水冷。
主真空室真空获得系统	扩散泵，罗茨泵，机械泵，高真空气动挡板阀。
极限真空度	6.6×10-3Pa（冷态），漏率：≤1×10-7Pa.L/s；压升率：1.33Pa./h。
双枪电子束系统	电子枪漏率：≤1×10-7Pa.L/s；工作真空度6.6×10-1Pa-6.6×10-3Pa.（用户可自己提供）。
加料系统	加料仓设有电动给料装置，硅料块直径不大于30mm，加料仓下面设有电动进料装置，每次加料量为2kg硅料。加料仓和进料机构之间设有电动闸板阀，采用独立真空获得系统。
浇铸系统	设有一套翻转同轴电极。
出料系统	出料仓尺寸	立式U型：φ600×1000，双层水冷，独立真空获得系统。
	料框升降机构	液压升降机构。
	水冷铜结晶器	内部尺寸：φ300×800。