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经广泛证实，该系列化学真空系统可在许多蒸发应用中用于获取和控制真空。其核心组件为MZ 2C NT化学隔膜泵，常用于含有“常规”溶剂的中等尺寸的真空体系。系统配备一个带电磁阀的CVC 3000真空控制器进行电子真空控制。出气口的废气冷凝器结构紧凑，效率*，可实现近100%的溶剂回收效果，有效地循环利用溶剂的同时保护环境。
Vacuubrand PC 510 NT控制型真空泵系统
经广泛证实，该系列化学真空系统可在许多蒸发应用中用于获取和控制真空。其核心组件为MZ 2C NT化学隔膜泵，常用于含有“常规”溶剂的中等尺寸的真空体系。系统配备一个带电磁阀的CVC 3000真空控制器进行电子真空控制。出气口的废气冷凝器结构紧凑，效率*，可实现近100%的溶剂回收效果，有效地循环利用溶剂的同时保护环境。PC 511 NT真空系统另外安装了一个手动真空控制端口。止回阀用于防止交叉污染和干扰，实现一个泵同时进行两种不同的真空操作。
该真空系统采用一个真空泵同时进行两个独立的真空应用的操作，是既经济又节省空间的好选择。每个真空端口安装一个带电磁阀的CVC 3000真空控制器进行真空控制。两个真空端口都内置止回阀，防止交互污染或干扰。该系统的核心部件是MZ 2C NT双级化学隔膜泵。它常用于含“常规”溶剂的中等尺寸的真空应用。出气口的废气冷凝器效率高，结构紧凑，可实现近100%的溶剂回收效果，有效地循环利用溶剂的同时保护环境。
PC 600系列化学真空系统经证实可用于许多蒸发过程的真空获取或控制。其基础泵为MD 4C NT三级化学隔膜泵，可满足大部分高沸点溶剂的真空要求。典型的应用包括连接旋转蒸发仪或真空干燥箱。该真空系统配备带电磁阀的CVC 3000真空控制器进行电子真空控制。出气口废气冷凝器效率高，结构紧凑，可实现近100%的溶剂回收效果，有效地循环利用溶剂，同时保护环境。
该系列化学真空系统经证实可用于许多蒸发过程的真空获取或控制。该系统使一个泵同时进行两个真空操作成为可能。它的基础泵为MD 4C NT三级化学隔膜泵，可满足大部分高沸点溶剂的真空要求。该泵的抽速足够大，允许同时进行两个大气载的操作。该真空系统配备一个带电磁阀的CVC 3000真空控制器进行电子真空控制。另一个真空端口连接一个手动流量控制阀进行有效地抽速控制。两个真空端口都内置止回阀，防止交叉污染。
PC 620 NT
该真空系统采用一个真空泵同时进行两个独立的真空应用的操作，是既经济又节省空间的好选择。每个真空端口安装一个带电磁阀的CVC 3000真空控制器进行真空控制。采用MD 4C NT三级化学隔膜泵作为基础泵，可满足绝大部分高沸点溶剂的高真空需求。该泵的抽速足够大，允许同时进行两个大气载的操作。两个真空端口都内置止回阀，防止交互污染或干扰。出气口废气冷凝器可实现近100%的溶剂回收效果，有效循环利用溶剂同时保护环境。
