快速热处理退火炉简称 RTP(Rapid Thermal Processing Furnace)，不但拥有很快的升温速率100℃/S，而且降温速率也有了质的飞跃，降温速率100℃/S。我们的工程师们巧妙地利用了冷壁工艺，以至于达到如此快的降温速度。真正的快速升温和快速降温!

　　腔体采用了双层石英管结构，外层管进气，内层管出气，使得反应气氛与加工样品充分而均匀地接触。

　　加热灯管之所以能够让硅片快速升温，是因为光源波长在0.3-4微米之间，石英管壁无法有效吸收这一波段的辐射，而晶片则正好相反。因此，晶片可以吸收辐射能量快速加热，而此时石英管壁仍维持低温，即所谓冷壁工艺。

　　应用领域：

　　Ø 快速热退火 (RTA); 离子注入后退火

　　Ø 石墨烯等气象沉积，碳纳米管等外延生长

　　Ø 快速热氧化 (,RTO); 热氮化 (RTN);

　　Ø 硅化 (Silicidation);

　　Ø 扩散 (Diffusion);

　　Ø 离子注入后退火 (Implant Annealing);

　　Ø 电极合金化 (Contact Alloying);

　　Ø 晶向化和坚化 (Crystallization and Densification);

　　主要特点：

　　Ø 快速升温100℃/S，快速降温100℃/S;

　　Ø 双层炉管结构，气氛与样品接触更均匀;

　　Ø 直接测量样品表面温度，测温更精准;

　　Ø 炉膛根据设置可自动左右移动，可以满足更多的实验应用;

　　Ø 真空度可达9.8×10-4Pa;