日立高新离子研磨系统ArBlade5000能够实现高产量，并制备广域横截面样品。
 

日立高新离子研磨系统ArBlade5000使用通过在表面上照射氩离子束引起的溅射效应来抛光样品的表面。样品预处理系统可以用于电子和*材料等各个领域的研发和质量控制等。
 

与机械抛光不同，离子研磨系统处理样品而不会变形或施加机械应力。因此，用于预处理样品的离子铣削系统的应用范围不断扩大，不仅包括扫描电子显微镜（SEM），还包括原子力显微镜（SPM / AFM）等。离子铣削系统应用范围广泛，日立高新收集了用户在各种领域提供的关键性建议和改进，并将它们纳入到 新的设计平台。
 

新推出的ArBlade 5000具有混合研磨功能，能够进行横截面研磨，是日立离子研磨系统的标志。此功能使样品能够根据所需的目的和应用进行预处理。

ArBlade 5000还具有PLUS II离子枪技术设计。这是一种新的氩离子枪，可以实现了1mm/hr以上的截面铣削速度（日立高新的IM4000Plus型号的两倍）。新系统使用户能够在比以前更短的时间内准备横截面，包括陶瓷和金属等硬质材料，这往往需要较长的加工时间。
 

此外，日立高新开发了全新的宽区域横截面研磨，以实现横截面研磨，zui 大研磨宽度为8mm，从而可以制备比以往更大的截面样品。通过与下一代氩离子枪的协同效应，新的ArBlade 5000可以与市场上可用的任何其他离子系统一起制备广域横截面样品。
　　
主要特点
　　1.能够进行横截面和平面的混合研磨系统。
　　2.通过PLUS II离子枪技术设计高速氩离子枪实现1mm/hr或更高的横截面研磨速度。
　　3.通过使用广域横截面研磨，实现zui  大宽度达8mm的广域加工。
　　4.基于采用LCD触摸面板的全新控制系统，增强了可操作性。