次氯酸钠发生器焦作消毒设备博斯达
次氯酸钠发生器焦作消毒设备博斯达
次氯酸钠发生器焦作消毒设备博斯达
次氯酸钠发生器焦作消毒设备博斯达
次氯酸钠发生器焦作消毒设备博斯达

BSD-CL-200型次氯酸钠发生器焦作消毒设备博斯达

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-09-07 18:08:13
14
属性:
品牌:博斯达;
>
产品属性
品牌
博斯达
关闭
山东博斯达环保科技有限公司

山东博斯达环保科技有限公司

免费会员
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

次氯酸钠发生器焦作消毒设备博斯达
次氯酸钠发生器是水处理消毒杀菌设备的一种,该设备以食盐水作为原材料,通过电解反应产生次氯酸钠溶液。次氯酸钠是强氧化剂和消毒剂,它是通过取源于广泛价廉的工业盐或海水稀溶液,经无隔膜电解而发生的。为确保次氯酸钠质地新鲜和有较高的活性。保证消毒效果,本装置一边发生,一边将发生的次氯酸钠投加使用。它与氯和氯的化合物相比,具有相同的氧化性和消毒作用。

详细介绍

 

次氯酸钠发生器焦作消毒设备博斯达

维护常规

一、经常保持设备清洁,V形溶盐箱底部的盐污应经常清除,

尽可能避免盐污进入电解槽,应经常清除盐液过滤器的滤芯,防止被盐污堵塞,具体冲洗方法根据现场操作规程而定。

二、每班运行停机时应对电解槽电极冲洗一次。

三、本电解槽使用的电极为管式电极,一般水质条件下累计

电解250小时,产生的钙、镁等离子将结垢于阴极表面,使槽电流下降,故应进行酸浸泡处理,方法是在每班反冲洗完成后,在循环槽次氯酸钠溶液抽空的情况下,加入工业盐酸使配比浓度为1-2%,可人工向循环槽内倒入,也可另设加酸泵注入。可启动循环泵,反复冲进电极内部循环酸洗,循环的时间可根据电极的结垢状态而定。

 四、本电极除循环酸洗外,还应定期进行拆下清理,拆下清理

的方法由安调人员指导用户操作人员进行,并根据当地水质硬度确定拆下清理的周期。

五、本电解槽阳极活性涂层在一般水质条件下投入使用60个月后,逐步降低槽电流值,在*清理电解槽后观察阳极槽黑色层,如开始发现局部可见钛金属底色时,则须进行返厂重涂。电极活性涂层返厂重涂应与制造厂家取得。

六、本使用说明书的制定还应与常用规格的产品说明书相结合,该书是对本套次氯酸钠发生器特定的使用方法进行介绍,并不排除遵照常用规格产品的其他要求进行使用。    如有未考虑因素,根据现场情况而定。

次氯酸钠发生器基本操作过程

    工作时,首先接通电源,将普通工业用盐(每公斤0.35元左右)加入化盐装置溶解成10%左右的盐水,打开阀门让盐水通过过滤沉淀进入储盐液箱;然后,启动自配水开关,设备自动勾配盐水到浓度为33.5%左右的稀盐水;再打开阀门调节好流量计,让经配兑好的盐水按设定流量通过一组阴阳极管组成的夹层式电解槽 或板结构组成的电解槽;zui后,启动整流电流开关,同时打开冷却水阀门通过冷却装置冷却电解槽,次氯酸钠开始工作。这样,整个设备就生产出了标准的次氯酸钠液体(浓度为1%左右);zui后,药液自动流入储药液箱,便于储藏备用和随时投加。

   目前,从水体消毒的种类来说,有lvqi、次氯酸钠、漂baifen、二氧化氯、三氯异氰尿酸、双氧水、臭氧等药剂和方式,此外还有高价氧化水、紫外线消毒等一些手段。

次氯酸钠发生器易维护保养

    在所有的消毒剂中,尽管lvqizui为经济,但是,由于lvqi运输、管储方面的不安全;而且在投加上气体同水体的溶解性较低,lvqi瓶气压不断变化,存在投加计量不够准确的问题;加之,lvqi等气体的*扩散性对环境存在毒害作用,游离氯的高活性同许多有机物容易形成诸如四氯化碳、二恶因等一类致癌的氯代有机化合物,造成环境的第二次污染,故而,取消yelv的主张越来越多,也日益受到人们的关注。

次氯酸钠发生器焦作消毒设备博斯达

 

 

 

上一篇:浅谈次氯酸钠发生器主要优势体现 下一篇:不管是从原料、成本还是效果上看,次氯酸钠发生器都更胜*
提示

请选择您要拨打的电话:

72192 [{"ID":"752587","CompanyID":"72151","Title":"浅谈次氯酸钠发生器主要优势体现","Picture":"","PictureDomain":"","UpdateTime":"2024/10/29 7:25:19","CreateTime":"2024/10/29 7:25:19","ClassName":"技术交流","rn":"3"},{"ID":"748969","CompanyID":"72151","Title":"不管是从原料、成本还是效果上看,次氯酸钠发生器都更胜*","Picture":"","PictureDomain":"","UpdateTime":"2024/10/6 7:41:13","CreateTime":"2024/10/6 7:41:13","ClassName":"技术交流","rn":"4"}]