稀释扩散法

原理：将有臭味地气体通过烟囱排至大气，或用无臭空气稀释，降低恶臭物质浓度以减少臭味。适用范围：适用于处理中、低浓度的有组织排放的恶臭气体。优点：费用低、设备简单。缺点：易受气象条件限制，恶臭物质依然存在。

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对于采用客土稀释方式进行修复的场地，需要控制重金属的下渗，对地下水的污染。电动力学修复，是将污染物浓缩在阴极或者阳极附近，通过泵将污染水体抽出，经过处理后再补充地下水，土壤中污染物便通过这种方式被洗涤出来。该技术只能处理溶解在水中的重金属离子；而对土壤中众多不溶解的重金属，则需通过调整土壤pH呈酸性或者加入大量的有机螯合剂以使重金属离子溶解进入水溶液。刘阳生介绍，该修复法由于技术复杂、受土壤环境的影响较大，成本也相对较高，目前尚处于实验室研究阶段。

水吸收法

原理：利用臭气中某些物质易溶于水的特性，使臭气成分直接与水接触，从而溶解于水达到脱臭目的。适用范围：水溶性、有组织排放源的恶臭气体。优点：工艺简单，管理方便，设备运转费用低 产生二次污染，需对洗涤液进行处理。缺点：净化效率低，应与其他技术联合使用，对硫醇，脂肪酸等处理效果差。

曝气式脱臭法

原理：将恶臭物质以曝气形式分散到含活性污泥的混和液中，通过悬浮生长的微生物降解恶臭物质 适用范围广。适用范围：截至2013年，日本已用于粪便处理场、污水处理厂的臭气处理。优点：活性污泥经过驯化后，对不超过极限负荷量的恶臭成分，去除率可达99.5%以上。缺点：受到曝气强度的限制，该法的应用还有一定局限。

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c为电荷分离率，即注入到TiO2导带中的电子有可能与膜内的杂质复合或以其他方式消耗：激发态的染料分子与TiO2导带中的电子重新复合；电解液中的I3-在光阳极上就被TiO2导带中的电子还原；所激发的染料分子直接与表面敏化剂分子复合。在整个过程中，各反应物总状态不变，只是光能转化为电能。电池的开路电压(Voc)取决于*的费米能级(Efermi)TiO2和电解质中氧化还原电势的能斯特电势差(ER/R-)，用公式可表示为Voc=1/q[Efermi)TiO2-ER/R-]，其中q为完成一个氧化还原过程所需电子数。

催化氧化工艺

原理：反应塔内装填特制的固态填料，填料内部复配多介质催化剂。当恶臭气体在引风机的作用下穿过填料层，与通过特制喷嘴呈发散雾状喷出的液相复配氧化剂在固相填料表面充分接触，并在多介质催化剂的催化作用下，恶臭气体中的污染因子被充分分解。适用范围：适用范围广，尤其适用于处理大气量、中高浓度的废气，对疏水性污染物质有很好的去除率。优点：占地小，投资低，运行成本低；管理方便，即开即用。缺点：耐冲击负荷，不易污染物浓度及温度变化影响，需消耗一定量的药剂。

低温等离子体

低温等离子体是继固态、液态、气态之后的物质第四态，当外加电压达到气体的着火电压时，气体分子被击穿，产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。放电过程中虽然电子温度很高，但重粒子温度很低，整个体系呈现低温状态，所以称为低温等离子体。低温等离子体降解污染物是利用这些高能电子、自由基等活性粒子和废气中的污染物作用，使污染物分子在极短的时间内发生分解，并发生后续的各种反应以达到降解污染物的目的。

低温等离子体空气净化设备能够显著治理的污染有：VOC、恶臭气体、异味气体、油烟、粉尘，也可用于消毒杀菌。低温等离子体技术是一种全新的净化过程，不需要任何添加剂、不产生废水、废渣，不会导致二次污染。

试验研究表明，在条件下运行时药品的实际投加量接近与理论计算值。污水中残存H2O2的终将分解为水和氧气，而不会和其中的有机物形成一些对人体有害的物质。这可以对水中溶解氧含量的监测得到证实，水中溶解氧的增量与过量的H2O2之间遵循化学计量关系：1gH2O2将生成.5g溶解氧。污水处理厂中试处理效果该污水处理厂是一座二级处理厂，处理能力约为164*14m3/d。该厂采用强化初沉(FeCl3和阴离子聚合物)的措施以限度地去除BOD。2.1.2第二步中和沉淀处理工艺条件：由pH自控装置控制硫酸加人量至pH8.5-9.，并按每废水计自动加人3-4mg/1#絮凝剂。由于在前-步的弱碱性介质中有-部分混凝剂保留在溶液中，所以这时不需补加混凝剂。混匀反应后，废水经过有蜂窝状沉淀斜管的池加速沉降。经二步沉淀后，上清液基本无色透明，pH7.5-8.6，Ni.1mg/L，Zn1.1mg/L，再经微滤机就能保证各项指标都合格排放了。

保温层块料保温层施工、平铺时，板状保温材料应紧靠在基层表面上，铺平垫段板间缝隙应采用同类材料嵌填密实。整体现浇保温层施工：整体现浇保温层铺设时按图纸提供的坡度，定出各处厚度点，表面应平整，并达到规定的强度和密度，压实程度应根据试验确定，不过分压实，以免降低保温效果。施工时应注意以下几点：按设计的要求配制配；采用人工搅拌，搅拌时要搅拌均匀，色泽一致，稠度以手捏成团、落地开花为准，材料应随抹随铺；铺抹时应分仓铺抹，每仓高设79mm。