OTSUKA大冢激光粒度仪-塔玛萨崎电子（苏州）有限公司手机版

详细介绍

详情介绍：

粒徑量測系統 ~粒徑＆粒徑分佈~

產品特色

搭載自動溫度梯度測量功能，可分析變性、相變溫度

新增大範圍分子量測定及解析功能(SLS法)

0~90℃寬闊的溫控範圍

稀溶液至濃溶液量測範圍伴隨著感度的提升而擴大（0.00001%（0.1ppm） ~ 40%）

粒徑量測範圍亦大幅提高至0.6nm ~ 10000nm

採用新的Log相關器，可量測至10μm

使用粒徑分析專用的微量樣品容器（選配）

量測範圍

分子量360 ~ 2000 × 104濃度範圍0.00001% ~ 40%(乳膠112nm：0.00001 ~ 10% / 膽汁酸：~ 40%)粒徑0.6 nm ~ 10000nm

規格樣式

	ELSZ-2000S
光學系統	動態光散射法（光子相關計算法）
光源	高功率、高穩定性半導體雷射
感光元件	高感度APD
樣品容器	粒徑/分子量：方形樣品容器
溫度範圍	0 ~ 90℃ （具備梯度功能）
電源規格	100V ± 10% 250VA，50 / 60 Hz
尺寸	380（W） × 600（D） × 210（H）mm
重量	約22kg

應用範圍

*適用於表面化學、無機材料、半導體、高分子聚合物、生物、藥劑、醫學領域等微粒子分析的研究與應用。新機能材料領域領域・燃料電池領域（奈米炭管、Fullerene、機能性薄膜、催化、奈米金屬）
・生物科技領域（奈米膠囊、網狀高分子聚合物、DDS、生物奈米粒子、奈米微氣泡…等）陶瓷及顏料工業領域・陶瓷（硅土、鋁土、氧化鈦…等）
・無機溶膠表面改質、分散、凝聚控制
・顏料（黑碳、有機顏料）分散、凝聚控制
・泥漿狀（Slurry）樣品
・彩色濾光片
・懸浮礦物質取樣材料吸著力研究半導體領域・矽晶圓表面所附著之異物解析
・研磨劑、添加劑與晶圓表面之相互作用研究
・CMP Slurry高分子及化學工業領域・塗料或黏著劑乳液、乳劑分散或凝聚狀態，醫藥、工業用乳膠表面改質
・電解質高分子機能性研究（Polystyrene sulfonate、Poly carboxylic acids…等），機能性奈米微粒醫藥、食品工業領域・食品乳化劑、香料、醫療、化妝品等乳液、乳劑分散、凝聚狀態，蛋白質機能性
・微脂體、液胞分散與凝聚控制，界面活性劑（微胞）機能性