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三氧化二铝的概述:
纳米Al2O3粉体与常规的相比,具有*的物理和化学特性,是一种重要的陶瓷材料及催化剂载体,具有耐磨,耐腐蚀,耐高温等优异性能,纳米A1203粉体因其具有高强度、高硬度、绝缘性好等优异特性,是一种重要的功能材料。但是在制备纳米A1203粉体过程中,由于其比表面积大、表面能高,易产生粉末的团聚,导致材料性能恶化,因此在研究氧化铝的制法时都要解决纳米氧化铝团聚的问题。
所以现在许多厂家都是将常规的 微米级Al2O3 研磨成纳米级 Al2O3 ,但是粉末团聚的成为了一个难以解决的问题,上海依肯应对这种现现状,研发出设备研磨分散机,从而解决了团聚难题。
三氧化二铝研磨分散机简介:
IKN/依肯研磨分散机,是一种将胶体磨(锥体磨)和分散机相结合的新型设备,将胶体磨和分散机一体化。在三氧化二铝研磨细化后,瞬间进行分散,解决团聚问题。现已有多家公司在上海依肯进行了现场实验,并且购买投入生产线中。根据客户实验总结,三氧化二铝和水按比例混合后,由于三氧化二铝本身比较轻,所以需要先预混合后,再进入研磨分散机进行研磨分散,zui终达到稳定的纳米级三氧化二铝。
IKN/依肯研磨分散机的结构:
研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
IKN/依肯研磨分散机的特点:
① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
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CMD2000系列研磨分散设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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