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高纯超细陶瓷粉末研磨分散机,高纯超细陶瓷粉末高剪切研磨分散机,管线式高纯超细陶瓷粉末研磨分散机,德国进口高纯超细陶瓷粉末研磨分散机,在线式高纯超细陶瓷粉末研磨分散机,IKN高纯超细陶瓷粉末研磨分散机
IKN研磨分散机设计*,能够延长易损件的使用时间,因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用,也可以单独使用,且粉碎粒度范围广,成品粒径可以进行调整。
随着社会的发展与科技的进步,在工业与生产中对材料的性能要求也不断提高,现如今单料已很难满足对其性能的综合要求,材料的复合化是材料发展的必然趋势之一。而陶瓷的高强度、高硬度、高弹性模量以及热化学性稳定等优异性能是使其成为众多学者研究的热点复合材料之一,但陶瓷所固有的脆性限制着其应用范围及使用可靠性。因此,改善陶瓷的室温韧性与断裂韧性,提高其在实际应用中的可靠性一直是现代陶瓷研究的热点。
陶瓷粉末的制备其一直是符合化陶瓷生产中的重要环节,陶瓷粉末的制造效率以及质量都会直接影响陶瓷产品的生产质量以及生产效率,在传统的陶瓷粉末生产中,其生产工艺十分简单,但是生产的时间长,生产的效率低,污染十分严重,而且能耗高,不利于生产成本的控制。
上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘。可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择) IKN研磨分散机可以高速研磨,分散,乳化,均质等功能,设备转速可达14000rpm,是目前国产设备转速的4-5倍。
研磨分散机的特点:
1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
设备其它参数:
设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器
从设备角度来分析,影响研磨分散机效果因素有以下几点:
1.研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次式要好)
2.研磨头的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齿形结构(分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好)
4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间(可以看作同等电机,流量越小效果越好)
5.循环次数(越多效果越好,到设备的期限就不能再好了。)
线速度的计算:
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素:
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60
所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素,超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的
CMSD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMSD2000/4 | 300 | 14000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10500 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 2850 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 1420 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%
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