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IKN研磨分散机设计*，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。

氧化石墨烯涂层改性的芳香聚酰胺反渗透膜属于水处理膜制备技术领域。该反渗透膜包括基底支撑层、中间多孔承托层、超薄致密分离层和氧化石墨烯涂层四个部分；氧化石墨烯涂层厚度为50～150nm。本发明将氧化石墨烯涂覆在致密分离层表面，可有效提高复合反渗透薄膜的脱盐率、抗污染性能和抗氯性能，同时降低所需工作压力。

随着工业的发展，水污染及淡水资源短缺是当今面临的大的挑战之一。为解决当前严重的淡水危机，海水淡化得到越来越多的关注。目前，主要的海水淡化脱盐技术包括反渗透、多效蒸馏、多级闪蒸和电渗析。其中，应用反渗透膜的反渗透法是节能的海水淡化技术。然而，目前所采用的传统聚酰胺高分子反渗透膜主要通过制造纳米孔起到截留盐离子的作用，脱盐性能上还存在诸多不足，如膜的产水量较低、抗污染和抗氯性能较差、所需外压较大，脱盐率还存在一定的提升空间等。

为了改善传统反渗透膜的亲水性、水和离子传输通道等，从而有效提高复合反渗透薄膜的脱盐率、抗污染性能和抗氯性能，同时降低所需工作压力，节省能耗并降低成本，本发明提供一种氧化石墨烯涂层改性的芳香聚酰胺反渗透膜

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上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘。可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择） IKN研磨分散机可以高速研磨，分散，乳化，均质等功能，设备转速可达14000rpm，是目前国产设备转速的4-5倍。

CMD2000研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力，可以处理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。

从设备角度来分析，影响研磨分散机效果因素有以下几点：

1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）

2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）

5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

 所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素，超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的

IKN研磨分散机的应用领域：

1. 精细化工、颜料、染料、涂料、油漆、塑料、树脂、热熔胶、阻燃剂、胶黏剂、整理剂、表面活性剂、均染剂防粘剂、消泡剂、光亮剂、橡胶助剂、塑料辅剂、染料助剂、絮凝剂、混凝剂、表面活性剂溶剂、硅油乳化、树脂乳化、炭墨分散
2. 石油化工、润滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性沥青、乳化沥青、催化剂、蜡乳化
3. 农药化肥 、化肥、农药乳化、农药助剂、农药中间体、药乳油、杀虫剂、除草剂、种衣剂、杀菌剂、植物激素、尿素、复合肥、乳油湿性粉剂
4. 生物医药、细胞浆化、血清疫苗、蛋白质分散剂、药乳膏、抗生素、糖衣
5. 日用化工、护肤霜、护肤膏、洗涤剂、防腐剂、美发用品、牙膏、日用香精
6. 食品工业、食品添加剂、香精香料、果汁、果酱、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末
7. 涂料油墨、内外墙涂料、乳胶漆、纳米涂料、建筑胶、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助剂釉、膨润土

CMD2000系列研磨分散机设备选型表
 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%

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