等离子PECVD系统

KJ-T1200-60-4CLV-PE等离子PECVD系统

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2022-05-24 12:00:02
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郑州科佳电炉有限公司

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产品简介

设备可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜,并可沉积p型、n型掺杂薄膜。沉积的薄膜具有良好的均匀性、致密性、粘附性、绝缘性。广泛应用于刀具、高精模具、硬质涂层、装饰等领域。

详细介绍

型号:KJ-T1200-60-4CLV-PE 

科佳电炉是一家专注于高温加热设备研发,生产和销售的厂家,产品使用用户有中科院,中建材院等科研机构,北京科技大学,华南理工大学等高校实验单位,蒂森克虏伯,中核高通,白鸽股份等集团企业用户, 我司拥有丰富电炉产品设计研发生产经验,完善的售前售后服务体系,可根据客户需求提供不同尺寸及型号的高精度电炉及窑炉产品,因产品型号与种类众多,欢迎广大用户直接!


产品简介: 

等离子PECVD系统系统为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,环境温度在100-300℃,但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解、离解和离化,从而大大提高了反应物的活性,这些具有反应活性的中性物质很容易被吸附到较次温度的基本表面上,发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜,因此这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)。 设备可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜,并可沉积p型、n型掺杂薄膜。沉积的薄膜具有良好的均匀性、致密性、粘附性、绝缘性。广泛应用于刀具、高精模具、硬质涂层、装饰等领域。


产品特点: 

等离子PECVD系统与普通的CVD系统相比,因为有等离子源的介入,系统的沉积温度相对较低。

配备有滑轨式管式炉可以轻松实现快速降温,实现快速退火。   

操控界面可配备液晶操作系统,图文显示,直观易懂,对于设备的使用操作简单易学 

该系统zui高工作温度接近1150℃,能满足大多数热处理场合。   



技术参数:



产品名称

1200度等离子4路混气PECVD系统

产品型号

KJ-T1200-60-4CLV-PE

管式炉

加热区长度

440mm

恒温区长度

150 (+/-1 ℃)

工作温度

1100℃(此温度为*加热温度)

zui高温度

1200℃

炉管尺寸

Φ60×1440mm

等离子射频电源

输出功率

5 ~500W    ± 1% . 

射频频率

13.56 MHz    ±0.005% .

反射功率

zui大约200W 

阻抗匹配

自动

真空泵机组(双极旋片泵)

真空度

10-3torr

波纹管

KFD25 快接,不锈钢波纹管,手动挡板阀与法兰,真空泵相连.

质量流量计

四通道控制

精度0.02% 、数字显示、自动控制、 一个混气罐、底部装有泄废液口

MFC 1范围

0~100 sccm 

MFC 2和3

0~500 sccm  

进气接口

1/4NPS

出气接口

1/4NPS

水冷系统

水冷法兰要求

水流量 >= 10L/M ,配有专业水冷机组


        我司提供和产品相关的配件,所有产品均可按客户要求定制。

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