LK3200A电化学工作站

仪器简介：
 

LK3200A型电化学工作站是在LK2000系列优点的基础上将电流范围扩大到2A，应用于电化学科研与教学、电池材料研制、电池充放、电催化、电沉积、腐蚀及防护研究、导电聚合物及导电膜研究、环境分析等领域的研究及阻抗测试。

LK3200A电化学工作站

技术参数：

电势控制范围：－10～+10V　 
恒电流范围：-2A～2A　 
槽压：-35V～+35V 
电流检测下限：≤10pA　　 
电位增量：0.01 mV～50V 
脉冲宽度：0.0001～10Sec　　 
方波频率：0.001～100KHz　 　 
交流频率：1～10KHz　　 
二次谐波交流频率：1～1KHz　　 　　 
采样间隔：0.0001～60000Sec　　 
平衡时间：0～60000Sec　　　　 
滤波参数：50Hz～1000KHz　 
电势信号扫描范围：10.0V　　 
扫描速度：0.01mV/S～5000V/S 
脉冲间隔：0.0001～60000Sec 
脉冲振幅：0.001～0.5V　　　　　 
方波幅度：0.001～0.5V　　 
交流幅度：0.001～0.4V　　　 　 
电解时间：1～60000Sec　　　　　 
电沉积时间：0～60000Sec　　 　 
低噪声程控放大1～64倍　　 
正弦波频率：0.01mHz～100KHz 
电流测量范围：±10mA～±1nA （8个量程档位）　　　　　　 
电流电位自动或手动滤波,自动或手动IR降补偿,自动电位或手动电流调零 
主机自带硬件交流阻抗体系,附带交流阻抗软件，及数据处理软件件，可进行测量及数据曲 
线的模拟该体系提供多个阻抗测量方法。 
接口通讯方式：串行通讯

恒电位技术：单电位阶跃计时电流法、双电位阶跃计时电流法、计时电量法、电流—时间曲线、开路电位--时间曲线、控制电位电解库仑法、电位溶出E-T曲线、微分电位溶出分析法。 
线性扫描技术：循环伏安法及无限次循环伏安、塔菲尔曲线、线性扫描溶出伏安法。 
脉冲技术：差分脉冲溶出伏安法。 
方波技术：循环方波伏安法、方波溶出伏安法。 
交流技术：交流伏安法、选相交流伏安法、二次谐波交流伏安法、交流溶出伏安法 
恒电流技术：单电流阶跃计时电位法、双电流阶跃计时电位法、线性电流计时电位法。 
电化学检测方法：电位分析-工作曲线法、电位分析-标准加入法、恒电位安培检测、方波电位安培检测。 
交流阻抗测量技术：交流-阻抗法、阻抗-电位法、阻抗-时间法。 
电池充放电测试

主要特点：

32位Windows中文界面 
测试系统软件采用32位Windows风格的软件界面，操作简单直观。实时观察窗口、图形数据一体化窗口的运用，使得测试过程直观高效。软件在运行中，对用户的操作及数据的有效性、完整性进行了充分地检查，适时给出提示或警告。 
数据实时显示 
LK3200A具有数据列表功能，能够实时显示阻抗的测量结果和打开文件的数据，确保你方便地查看实验结果。
强大的数据及图形处理
LK3200A交流阻抗测量系统上位机软件可直接处理80000个数据点，并能以十余种图形方式显示测量结果（如阻抗复平面图/Nyquist、Bode图、Warburg阻抗图），观察实验结果十分方便。