立式真空裂解炉

立式真空裂解炉

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具体成交价以合同协议为准
2022-06-10 17:40:03
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上海晨华科技股份有限公司

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产品简介

一、设备用途:立式真空裂解炉主要用于硅化硅陶瓷、陶瓷复合材料等新材料的制备

详细介绍

设备用途:

立式真空裂解炉主要用于硅化硅陶瓷、陶瓷复合材料等新材料的制备。

设备特点:

1 立式结构,底部出、装料,炉门采用丝杠升降。

2 双层炉壳结构,内层不锈钢,外层为碳钢,中间通水冷却。石墨碳棒加热体,石墨碳毡保温层保温效果好。

3 控制方式为PLC加触摸屏方式,有手动及自动控制切换。自动化程度高,操作方便。

4 主要电器元件采用施耐德及欧姆龙品牌,性能稳定、可靠。

5 配备出、装料料车,方便操作及出装料,提高工作效率。

主要技术参数:

No.型号

工作区尺寸

ØXH)mm

高温度

()

真空度

(Pa)

压升率 (Pa/h)

温度均匀性 ()

功率

(KW)

1ZT-160-15600X90015001-1000.67±10160
2ZT-245-15800X120015001-1000.67±10245
3ZT-300-15900X150015001-1000.67±15300
4ZT-680-151500X250015001-1000.67±20680
5ZT-900-151800X300015001-1000.67±20900



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