PDMS微流控芯片制作系统 EasyPDMS

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简介

PDMS微流控芯片制作系统 EasyPDMS PDMS芯片制作一般包含以下所列举工艺：① 清洗；② 匀胶；③ 曝光光刻；④ 显影；⑤ 烤胶；⑥ PDMS成型；⑦ 等离子表面活化处理；⑧ 键合；⑨ 打孔。PDMS微流控芯片制作系统 EasyPDMS制作系统可以提供完成以上各工艺流程的整套系统或单个设备。

用户可以根据自己的需求从设备列表中选取所对应工艺的设备，同时，我们也提供PDMS芯片制作实验室的整体方案设计和搭建服务，从洁净间设计到实验室布局，再到设备选择，以及用户采购后的安装调试及培训， 客户只需要提出需求，我们提供一整套服务，可以做到交钥匙工程。

工艺及设备对应表格：

规格参数

功能图解

设备简介

 清洗工艺：超声清洗机（左）和CUTE 等离子清洗机（右）

② 匀胶工艺（2选1）：SC100匀胶显影（左）和ZentriForm PDMS成型机（右，具备匀胶功能）

 曝光光刻（2选1）：UV-KUB 2单层光刻机（左）和UV-KUB 3对位光刻机（右）

④ 显影：SC100匀胶显影机

⑤ 烤胶：HP100 精密热板

⑥PDMS成型：ZentriForm PDMS成型机

⑦等离子表面活化处理：CUTE 等离子清洗机

⑧键合：HP100 精密热板

⑨打孔：打孔器

应用系统

PDMS芯片制作