技术参数：

Rapid Vap® 真空蒸发系统

特点：
● 升温、涡流转动和真空产生zui大蒸发速率；蒸发量高，处理量大（一次zui多处理110 个样品） 
● 设计微处理器程序控制（真空度从0 到999mBar，时间从1 到999 分钟，速度从0~100%，加热温度从室温到100ºC），可储存9 套程序
● 处理大体积样本时，比常规旋转蒸发方法快10 倍
● LED 显示，简单、方便的程序控制

● 无炭刷马达，zui大转速1000rpm，免电机维护，微处理控制
● Teflon 涂层铝制腔体可放置多种型号的样品管和样品座
● 微处理控制1000 瓦的加热系统（zui高可达100ºC）
● *的Cool-ZoneTM 管保证样品高效回收
● 安全设计，断电时自动泄真空
● 可应用于毒理检测，生物技术研究和环境分析等领域
● CE 认证
● 可选配：*的电加热有机玻璃上盖，有效防止水汽凝结

主要特点：

涡流技术使液体形成涡流构造，增大样品表面积，提高蒸发速率。