VTC-5RF五靶头等离子射频磁控溅射仪
产品概述：
VTC-5RF五靶头等离子射频磁控溅射仪是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪，针对于高通量MGI（材料基因组计划）薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料，通过5种元素，按16种不同配比组合。
主要特点：
- 多种溅射靶头及电源可选，自由组合，具体请致电我公司销售部。
- 根据所使用的电源（DC或RF），可以沉积金属或非金属材料。
- 一个旋转开关可以依次激活溅射头，可在真空或等离子体环境中自动切换，不影响真空度。
- 可以安装五种不同材料的靶材，每个靶头可单独设置溅射时间功率等参数，用于生长不同成分的薄膜。
- 可选购多个射频电源，同一时间溅射多个靶材。
- 可选配设备控制软件，用电脑控制溅射的所有参数。
溅射腔体：
- 真空腔体采用304不锈钢制作
- 腔体内部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (105 L)
- 铰链式腔门，直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口
溅射头&样品台：
- 5个1英寸的磁控溅射头，带有水冷夹层
- 溅射腔体内安装有电动挡板
- 溅射距离:溅射距离可调
- 溅射角度:溅射角度可调
- 实验时，需要将靶材和靶材的铜垫片用导电银浆粘合粘合，（可在本公司购买导电银浆）
- 可以单独订购RF连接线作为备用
- 设备需要一台水冷机，用于靶头冷却
样品台：
- 直径为150mm的样品台，上面覆盖一旋转台，带有10mm的孔洞，每次露出一个样品接收溅射成膜。
- 样品台尺寸：Φ150mm,可通过程序控制来旋转，可制作16种不同组分的薄膜
- 样品台可以加热，高温度可达600℃（根据配置不同可能会有变动，具体请咨询销售部）
真空系统：
- 安装有KF40真空接口
- 真空度：4.0e-5Torr(分子泵）（参考值，具体请点击）
- 可在本公司选购各种真空泵
进气：
- 设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶
- 设备前面板上装有一气流调节旋钮，方便调节气流
靶材：
- 所要求靶材尺寸：直径为25mm,大厚度3mm
- 可在本公司选购各种靶材
薄膜测厚仪（可选）：可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上
净重：60Kg（不包括泵)
质量认证：CE认证
使用提示：
- 此设备为DIY设备，参数变化较大购买前请务必电话仔细沟通
- 为了得到较好的薄膜质量，必须通入高纯气体（建议> 5N）
- 在溅射镀膜前，确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净
- 要达到薄膜与基底良好结合，请在溅射前清洁基材表面
- 超声波清洗（详细参数点击下面图片）：（1）丙酮超声（2）异丙醇超声-去除油脂（3）吹氮气干燥（4）真空烘箱除去水分。
- 等离子清洗（详细参数点击下面图片）：可表面粗糙化，可激活表面化学键，可祛除额外的污染物。
- 制造一个薄的缓冲层（5纳米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以应用于改善金属和合金的附着力。
警告：
- 注意：产品内部安装有高压元件，禁止私自拆装，带电移动机体。
- 气瓶上应安装减压阀（设备标配不包括），保证气体的输出压力限制在0.02兆帕
以下，以安全使用。 - 溅射头连接到高电压。为了安全，操作者必须在关闭设备前装样和更换靶
