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SAPHIR 250 M2双盘手动金相磨抛机概述 | |||
ATM德国*SAPHIR 250 M2双盘手动金相磨抛机,适用于直径200 - 300 mm的工作盘。其强大的速度控制驱动器允许所有工作步骤皆可实施应用。防震塑料內罩,采用粉末涂层的铝制外罩及设备的高标准技术,赋予了其安静、平稳运行的特点及更佳的制备结果。操作简单,安装、维修容易,经济实用,是教学、科研、质量控制等金相实验室的常用机型。 | |||
SAPHIR 250 M2双盘手动金相磨抛机性能 | |||
• 双盘研磨抛光机,操作简单,经济、实用 • 可配置8in、10in和12in磨盘,无需工具即可轻松、快速更换磨盘 • 磨盘转向顺时针或逆时针可调,转速可调 • 旋转循环功能(清洁增强) • 通过取出磨抛盘轻松清洁/冲洗水槽 • 防冲击塑料水槽 • 水槽冲洗管,手动水流电磁阀控制,可冲洗 • 具有状态指示的启停功能 • 可与手动加液系统Topas M组合使用 • 铝制外壳,粉末涂层,耐用美观 • 包含防溅挡圈和磨抛盖 • 适用于各种材料金相试样的研磨、抛光 | |||
SAPHIR 250 M2双盘手动金相磨抛机技术参数 | |||
磨盘尺寸 | Ø 8in(200mm)-10in(250mm) | ||
电源 | 200-240V,单相,50Hz | ||
电机功率 | 1.6kVA | ||
磨盘转速 | 30-600rpm | ||
磨盘转向 | 顺时针或逆时针,可调 | ||
操作方式 | 手动 | ||
尺寸(W×D×H) | 901×710×265mm | ||
重量 | 45kg | ||
SAPHIR 250 M2双盘手动金相磨抛机订货信息 | |||
产品编号 | 产品描述 | ||
M5631010 | 双盘手动研磨抛光机SAPHIR 250 M2 | ||
电源:200-240 V,单相,50Hz | |||
Z5631001 | SAPHIR 250 磨抛盘,Ø 200 mm | ||
Z5631002 | SAPHIR 250 磨抛盘,Ø 250 mm | ||
Z5631003 | SAPHIR 250 压圈,塑料,适配Ø 200 mm工作盘 | ||
Z5631004 | SAPHIR 250 压圈,塑料,适配Ø 250 mm工作盘 | ||
A5810261 | 废料过滤沉淀槽,双格室45L,H800 mm,可推入系统实验室橱柜 | ||
A5810237 | 废料过滤沉淀槽,双格室45L,H900 mm,可推入系统实验室橱柜 | ||
A5800496 | 废料过滤沉淀槽,双格室45L,移动式 | ||
Z5600008 | 连接套件:1根排水管,1根压力管 | ||
*** | 加液系统 TOPAS M |