平面抛光机630XQ使用范围：

　　本系?研磨机特别适合于?属件?晶体等镜面效果的单平面研磨抛光,配合本公司研发配置的研磨抛光耗材使用后的工件可达镜面效果。光洁?可达纳米级,抛光后无橘皮??纹?麻点?划痕等,放于空气中而?氧化。可满足小?中型工件的?产要求,同时也适合模具??锈钢?陶瓷片?硬盘?密封件等各种半导体及?属材?的镜面研磨抛光。该机器适用性强,可用于各种?同材质的研磨抛光,加工?同的材质只需?换工艺即可,根据客户?同的材?选择?同的工艺。有多款产能?同的机器可选,客户可根据?同产?要求选择对应机型。

　　平面抛光机630XQ特点

　　1.配合高精密?的修盘装置,使研磨平面?zui高达到±0.002mm左右。

　　2.变频控制,实现软启动,软停机,冲击?小,减少工件损伤。

　　3.系?研磨机采用PLC可编程控制系统?触摸屏操作面板,研磨盘转速与定时可直接在触摸屏上输入。

　　4.配研磨液自动喷雾系统,使磨?能均匀的喷洒在研磨盘上,加工出来的工件???高?稳定。还可以减少研磨的时间,节??耗材的成本,也符合?环保要求。

　　5.采用*轴承,中国台湾原产电机,确保设备的稳定性和寿命,确保工件的高精密要求。

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