台式金属分析仪是我公司引进欧洲技术生产,是目前的的第二代CCD光谱仪技术, 广泛应用于冶金、铸造、机械、汽车制造、航空航天、兵器、金属加工等领域的生产工艺控制，炉前化验，中心实验室成品检验。仪器体积小、稳定性好、检测限 低、分析速度快、运行成本低、操作维护方便，是控制产品质量的理想选择。

• 可测定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,适用于多种金属基体，如：铁基，铝基，铜基，镍基，铬基，钛基，镁基，锌基，锡基和铅基。全谱技术覆盖了全元素分析范围，可根据客户需要选择通道元素；
• 分析速度快捷，20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料，通过设置预燃及标线，使仪器用短的达到优的分析效果；
• 光学系统采用非真空恒温光室， 激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光室，实现光路直通,消除了光路损耗，提高检出限，测定结果准确，重现性及长期稳定性；
• 特殊的光室结构设计，使真空室容积更小，抽真空速度不到普通光谱仪的一半；
• 自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作。仪器自动识别特定谱线，与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定；
• 开放式的电极架设计，可以调整的样品夹，便于各种形状和尺寸的样品分析；
• 工作曲线采用标样，预做工作曲线，可根据需要延伸及扩展范围，每条曲线由多达几十块标样激发生成，自动扣除干扰；
• HEPS固态光源，适应各种不同材料 ；
• 固态吸附阱，防止油气对光室的污染，提高长期运行稳定性；
• 铜火花台底座，提高散热性及坚固性能；
• 合理的氩气气路设计，使样品激发时氩气冲洗缩短，为用户节省氩气，氩气消耗不到普通光谱仪的一半；
• 采用钨材料电极，电极使用寿命更长，并设计了电极自吹扫功能，清洁电极更加容易；
• 高性能DSP及ARM处理器，具有超高速数据采集及控制功能并自动实时监测光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状况；
• 仪器与计算机之间采用以太网连接，抗干扰性能好，外部计算机升级与仪器配置无关，使仪器具有更好的适用性；
• 核心器件，保证了仪器的品质。