半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。

　　制备电子工业用超纯水的工艺流程

　　电子行业制备超水的工艺大致分成以下几种：

　　1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

　　2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

　　3、采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备进行搭配的的方式，这是一种制取超纯水的新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

　　电子超纯水设备特点

　　设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成前期预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

　　电子工业用超纯水的应用领域

　　1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;

　　2、超纯材料和超纯化学试剂;

　　3、实验室和中试车间;

　　4、汽车、家电表面抛光处理;

　　5、光电产品;

　　6、其他高科技精微产品;

　　三种制备电子工业用超纯水的工艺比较

　　目前制备电子工业用超纯水的工艺基本上是以上三种，其余的工艺流程大都是在以上三种基本工艺流程的基础上进行不同组合搭配衍生而来。现将他们的优缺点分别列于下面：

　　1、种采用离子交换树脂其优点在于初投资少，占用的地方少，但缺点就是需要经常进行离子再生，耗费大量酸碱，而且对环境有一定的破坏。

　　2、第二种采用反渗透作为预处理再配上离子交换设备，其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高，但离子设备再生周期相对要长，耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还是有一定的破坏性。

　　3、第三种采用反渗透作预处理再配上电去离子(EDI)装置，这是目前制取超纯水经济，环保用来制取超纯水的工艺，不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水，对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。

　　电子工业反渗透超纯水设备工艺

　　电子工业用超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等简直全部往除的水)概述

　　半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各类电子器件、微电子工业、年夜范围、超年夜范围集成电路需用年夜批的高纯水(含盐量在0.3mg/L以下,电导率小于0.2μs/cm的水)、超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等简直全部往除的水)清洗半制品、制品。集成电路的集成度越高，对水质的请求也越高。今朝我国电子工业部把电子级水质技巧分为五个行业尺度，分辨为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分分歧水质。

　　用两级反渗透制取

　　电子工业超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等简直全部往除的水)处理(经由过程物化方法往除水中一些物质的过程)设备 采用两级反渗透主机加EDI纯水系统(电阻率请求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超纯水)(电往离子(又称填充床电渗析EDI纯水系统(电阻率请求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超纯水)/CDI纯水设备(实用于制备电阻率请求很高的纯水系统))(Electrodeionization)的简称)

　　制取电子工业超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等简直全部往除的水)处理(经由过程物化方法往除水中一些物质的过程)设备