*纳米混悬液均质机
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KES2000*纳米混悬液均质机

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2021-12-15 07:58:00
9
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太仓中新宝智能装备有限公司

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产品简介

*纳米混悬液均质机絮凝作用即是在静态(由于布朗运动)或动态(在剪切力作用下条件下, 通过颗粒碰撞引起颗粒数目减少的过程。胶体系统中,如不考虑稳定剂, 颗粒间的相互作用主要有范德华(Vander Waals)引力;伴随着带电颗粒的库仑(Coulombic)力(斥力或引力)。这些力的起因截然不同。

详细介绍

*纳米混悬液均质机,*高转速均质机,*高剪切均质机,*分散均质机

(洽谈:1-7-3-6-8-3-4-7-9-6-0)

*(Enrofloxacin,ENR)又名乙基*,是动物的第三代喹诺酮类抗菌药,其作用机理是通过抑制细菌DNA螺旋酶达到抗菌效果,在动物体内的代谢主要是脱去乙基而成为*。ZKE/中新宝设计的高剪切均质机能够将*混悬液进行细化分散均质,更好的吸收。

影响分散乳化结果的因素有以下几点

1 乳化头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)

2 乳化头的剪切速率(越大,效果越好)

3 乳化头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

4 物料在分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机, 流量越小,效果越好)

5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好) 线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率(s-1) = v 速率(m/s) g 定-转子间距(m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

 

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子间距。SGN 定-转子的间距范围为0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速RPM / 60 2.2.1 浆料稳定性理论

大部分的浆料都是属于悬浮液体系。不稳定的悬浮液在静止状态下发生絮凝,并由于重力作用而很快分层,分散的目的就是要在产品的有效期内

抗絮凝、防止分层,维持悬浮颗粒的均匀分布,提高产品的稳定性。2.2.1.1 悬浮液的絮凝理论

絮凝作用即是在静态(由于布朗运动或动态在剪切力作用下条件下, 通过颗粒碰撞引起颗粒数目减少的过程。胶体系统中,如不考虑稳定剂, 颗粒间的相互作用主要有范德华(Vander Waals)引力;伴随着带电颗粒的库仑(Coulombic)斥力或引力)。这些力的起因截然不同

型号

标准流量L/H

输出转速Rpm

标准线速度m/s

马达功率KW

进口尺寸

出口尺寸

KMZS20002000/4

300-1,000

18,000

51

4

DN25

DN15

KMS20002000/5

1,000-1,500

13,500

51

11

DN40

DN32

KMS20002000/10

3,000

9,300

51

22

DN50

DN50

KMS20002000/20

8,000

3,600

51

37

DN80

DN65

KMS20002000/30

20,000

3,600

51

75

DN150

DN125

KMS20002000/50

40,000

2,500

51

160

DN200

DN150

*纳米混悬液均质机,*高转速均质机,*高剪切均质机,*分散均质机

 

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