单面研磨抛光机

YH2M8192C3单面研磨抛光机

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2023-11-01 08:43:16
14
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品牌:宇环数控/YUHUANCNC;
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宇环数控/YUHUANCNC
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宇环数控机床股份有限公司

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产品简介

单面研磨抛光机宇环数控YH2M8192C3控制元器件均采用24V电源,PLC电源采用隔离变压器供电,降低外界电网杂波干扰了机床的安全性。

详细介绍

单面研磨抛光机宇环数控YH2M8192C3主要用途:主要用于2.5D手机玻璃的弧面抛光。

 

单面研磨抛光机宇环数控YH2M8192C3机技术特点:

1、四工位上盘真空吸附抛光机。

2、利用真空吸附将工件固定在治具上。将羊毛毯固定在下盘表面,利用羊毛毯羊毛、抛光液与玻璃之间的摩擦力实现对玻璃弧面的抛光。

3、本机上下盘均可由数控程序控制,按工艺要求实现无极变速,以满足不同抛光工艺要求。

4、采用电气比例阀精确控制抛光压力,确保抛光精度。

5、上抛光盘由调速电机驱动,一个气缸控制其升降及加压。

6、本机采用人机界面HMI与可编程控制PLC相结合,操作方便快捷,提高了工作效率。

7、用触摸屏做为人机界面显示报警和机床状态的实时信息;介面友好,信息量大。

8、控制元器件均采用24V电源,PLC电源采用隔离变压器供电,降低外界电网杂波干扰了机床的安全性。

 

宇环数控YH2M8192C3主要技术参数:

项目

Item

单位

Unit

参数

Specs

下工件盘尺寸(外径×厚度)

Size of Lower working plate(OD*T)

mm

Φ914×35

上抛光盘尺寸Size of upper polishing plate(OD)

mm

360

抛光头数量polishing head qty

pcs

4

抛光压力(气压)反压Polishing pressure

MPa

0—0.4

下抛光盘转速Rotational speed of lower polishing plate

rpm

0~150 rpm(无极调速)

上抛光盘转速Rotational speed of upper polishing plate

rpm

0~200 rpm(无极调速)

下抛光盘电机Motor of Lower plate

rpm

功率7.5KW,额定转速:1440rpm

上抛光盘电机Motor of Upper plate

 

功率1.5KW,额定转速:1450rpm

加压气缸(缸径×行程)Pressurized cylinder(bore*stroke)

mm

Φ140×450

外型尺寸(约:长×宽×高)Overall dimension (L*W*H)

mm

1650×1450×2570

整机重量Total weight

kg

2300

 

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